[發明專利]半導體裝置、電源裝置及信息處理裝置無效
| 申請號: | 200680015164.5 | 申請日: | 2006-06-16 |
| 公開(公告)號: | CN101171678A | 公開(公告)日: | 2008-04-30 |
| 發明(設計)人: | 梅本清貴 | 申請(專利權)人: | 羅姆股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/822 | 分類號: | H01L21/822;H01L21/8234;H01L27/04;H01L27/088;H02M3/155 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 朱進桂 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 裝置 電源 信息處理 | ||
技術領域
本發明涉及一種使用MOS晶體管作為輸出裝置的半導體裝置。
背景技術
如圖9所示,常規的電源裝置通過打導通和截止輸出MOS晶體管900的柵極,經由輸出端子30輸出所需的輸出電壓。這里,在輸出MOS晶體管900的源極區和漏極區之間,通常存在作為寄生器件的體二極管BD。因而,如果由于某些原因,在輸入端子20和輸出端子30之間施加反向偏置,那么電流將通過體二極管BD而在源極和漏極之間流動,并且這使得不可能在源極區和漏極區之間絕緣。
在如下列出的專利文件1中,公開了一種克服由于體二極管BD的存在而導致的上述問題的方法。然而,這種方法需要多個開關。因此需要很大的電路面積。而且,這種方法使用串連的MOS晶體管,因而在穩定輸出狀態時,在MOS晶體管兩端存在高導通狀態電阻,導致效率低下。
圖10中所示的另一種方法是,將MOS晶體管910的背柵極連接到基準電勢,從而不能形成體二極管BD。這使得可以將源極區和漏極區之間絕緣。
當采用圖10中所示的配置時,MOS晶體管910工作在非飽和區。因而,下面的公式(1)(非飽和區公式)給出了MOS晶體管910的漏極電流Id。在公式(1)中,參數Vgs表示MOS晶體管910的柵極-源極電壓,以及參數Vds表示MOS晶體管910的漏極-源極電壓。
[公式1]
下面的公式(2)給出了公式(1)中的參數K。在公式(2)中,參數W表示MOS晶體管的溝道寬度,參數L表示MOS晶體管的溝道長度,參數εsi表示硅的介電常數,參數tox表示柵極氧化膜的厚度,以及參數μ表示溝道中的載流子遷移率。
[公式2]
下面的公式(3)給出了公式(1)中的器件閾值電壓Vt。在公式(3)中,參數Vt0表示由所使用的工藝決定的器件閾值電壓,參數γ和Φf是由工藝確定的因數,以及參數Vbs表示背柵極-源極電勢差。
[公式3]
專利文件1:JP-A-H10-341141
專利文件2:JP-A-S62-030421
發明內容
本發明要解決的問題
當然,采用圖10中所示的配置有助于去除體二極管,因而有助于將MOS晶體管910的源極區和漏極區絕緣。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





