[發(fā)明專利]用于涂覆光學(xué)數(shù)據(jù)載體的片狀襯底的裝置和方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680014284.3 | 申請(qǐng)日: | 2006-04-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101213603A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-07-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | C·韋因德?tīng)?/a>;W·盧克豪布 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 施蒂格哈馬技術(shù)股份公司 |
| 主分類號(hào): | G11B7/26 | 分類號(hào): | G11B7/26;C23C14/50;G11B7/24 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李永波;趙辛 |
| 地址: | 德國(guó)斯臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 光學(xué) 數(shù)據(jù) 載體 片狀 襯底 裝置 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種用于涂覆光學(xué)數(shù)據(jù)載體的片狀襯底的裝置和方法。
在制造光學(xué)數(shù)據(jù)載體,如例如CD,DVD,Blu-ray(藍(lán)光)和它們各自的下級(jí)格式(Unterfomaten)時(shí),需要在載體襯底上施加反射覆層。依據(jù)要形成的光學(xué)數(shù)據(jù)載體的不同情況,可能需要將一個(gè)覆層施加到一個(gè)單一的載體襯底上(單層格式)或者將兩個(gè)由通常不同的材料或材料組分構(gòu)成的覆層施加到兩個(gè)不同的載體襯底上(雙層格式)。對(duì)于未來(lái)還可以考慮將兩個(gè)或更多個(gè)由可能是不同的材料構(gòu)成的覆層施加到載體襯底上。
涂覆一般通過(guò)陰極濺鍍裝置實(shí)施,其中由涂覆材料構(gòu)成的靶子被濺射,以涂覆載體襯底。此時(shí)涂覆總是在真空中實(shí)施的。
為了制造單層格式和雙層格式分別采用了不同的陰極濺鍍裝置,其中為了制造雙層格式使用了兩個(gè)單獨(dú)的涂覆裝置具有單獨(dú)的閘腔、輸送腔和陰極濺射腔。此時(shí)的缺點(diǎn)是需要相對(duì)較大數(shù)量的陰極濺鍍裝置,特別是對(duì)于雙層格式而言,它們需要自己的帶有相應(yīng)的輸送單元的閘腔和輸送腔。
因此,從已知的涂覆裝置出發(fā),本發(fā)明的任務(wù)是,提出一種用于涂覆光學(xué)數(shù)據(jù)載體的片狀襯底的裝置和方法,它能夠以簡(jiǎn)單的和成本有利的方式實(shí)現(xiàn)襯底的涂覆,特別是平行地涂覆用于雙層格式的單獨(dú)的襯底。
按照本發(fā)明,該任務(wù)在一種用于涂覆光學(xué)數(shù)據(jù)載體的片狀襯底的裝置中這樣得到解決,即該裝置具有以下部分:構(gòu)成真空腔的外殼,其中外殼具有至少兩個(gè)涂覆口和至少一個(gè)輸入/輸出口,其中至少兩個(gè)襯底可以同時(shí)通過(guò)輸入/輸出口裝入真空腔中或從真空腔中卸出;至少兩個(gè)陰極濺射裝置,其中每個(gè)陰極濺射裝置從外部真空密封地封閉外殼的涂覆口中的一個(gè)涂覆口,和其中陰極濺射裝置各具有一個(gè)要濺射的靶子;布置在真空腔內(nèi)的輸送裝置,其用于在至少一個(gè)輸入/輸出口和涂覆口之間同時(shí)輸送至少四個(gè)襯底;和控制單元,其用于依據(jù)要求的涂覆結(jié)果這樣地控制輸送裝置,使得襯底從至少一個(gè)輸入/輸出口按順序地輸送到第一涂覆口、第二涂覆口和接著輸送到至少一個(gè)輸入/輸出口(串聯(lián)控制)或這樣地,使得襯底從至少一個(gè)輸入/輸出口輸送到一個(gè)涂覆口和接著直接地輸送到至少一個(gè)輸入/輸出口(并聯(lián)控制)。上述裝置能夠一方面以很低的裝置費(fèi)用在并聯(lián)控制輸送裝置的情況下實(shí)現(xiàn)單層格式和雙層格式的制造,以及在串聯(lián)控制輸送裝置時(shí)在襯底上涂覆兩個(gè)或更多覆層。因此同一個(gè)裝置可以用于不同的格式,并且對(duì)于雙層格式可以設(shè)置一個(gè)單獨(dú)的設(shè)備。此外特別是在襯底上涂覆多個(gè)覆層時(shí)不需要將襯底在具有自己的閘腔,輸送裝置等等的不同的涂覆裝置中的不同的涂覆工序之間運(yùn)進(jìn)和又運(yùn)出。這樣就大大低降低了裝置費(fèi)用和控制技術(shù)上的費(fèi)用。
本發(fā)明的任務(wù)還由一種用于涂覆光學(xué)數(shù)據(jù)載體的片狀襯底的裝置解決,其中該裝置具有構(gòu)成真空腔的外殼,其具有至少兩個(gè)涂覆口和至少一個(gè)輸入/輸出口;兩個(gè)陰極濺射裝置,其分別從外部真空密封地封閉外殼的涂覆口中的一個(gè)涂覆口并且各具有一個(gè)要濺射的靶子;和布置在真空腔內(nèi)的具有至少四個(gè)襯墊接納器的輸送裝置,其用于在至少一個(gè)輸入/輸出口和至少兩個(gè)涂覆口之間同時(shí)和并列地輸送至少兩個(gè)襯底。
上述裝置特別是設(shè)計(jì)用于涂覆多個(gè)用于單層或雙層格式的襯底,其中在一個(gè)具有單個(gè)的輸送裝置和單個(gè)的真空腔的單獨(dú)的裝置內(nèi)能夠同時(shí)涂覆至少兩個(gè)襯底。
優(yōu)選地,輸入/輸出口和涂覆口在外殼的一個(gè)共同的壁中構(gòu)成,其簡(jiǎn)化了襯底的裝載和卸載并且能夠?qū)崿F(xiàn)簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)的輸送裝置。
按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例,至少兩個(gè)陰極濺射裝置具有不同的材料的靶子,這特別是對(duì)制造雙層格式大多是必須的。但是,單層格式也可以用不同的覆層制造,只有要求的話。
按照本發(fā)明的一個(gè)特別優(yōu)選的實(shí)施例,輸送裝置基本上在水平定向上支承襯底,這能夠?qū)崿F(xiàn)與現(xiàn)有的制造系統(tǒng)進(jìn)行很好的連接,在這些系統(tǒng)中襯底一般在水平定向上支承。因此不需要改變襯底的位置,這便于建造和控制相應(yīng)的操作裝置。優(yōu)選地,外殼的該壁是外殼的一個(gè)上壁,這便于襯底的裝載和卸載和特別是便于對(duì)陰極濺射裝置的作用,例如為了進(jìn)行靶子更換或者維修。
優(yōu)選地,輸送裝置具有可旋轉(zhuǎn)的帶至少四個(gè)接納器的輸送單元和至少一個(gè)單獨(dú)的升降單元。通過(guò)將可旋轉(zhuǎn)的輸送單元與升降單元分開(kāi),各自的單元可以簡(jiǎn)單地構(gòu)造和控制。為了使襯底或襯底盤(pán)運(yùn)動(dòng)到輸入/輸出口和/或涂覆口和從它們那里離開(kāi),此時(shí)需要升降單元。
優(yōu)選地,設(shè)置至少兩個(gè)單獨(dú)的升降單元,以便例如為輸入/輸出口和涂覆口設(shè)置不同的升降單元。此時(shí)優(yōu)選地使升降單元的升降元件與其中一個(gè)壁中的各自的開(kāi)口對(duì)準(zhǔn)。
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G11B7-002 .按載體形狀區(qū)分的記錄、重現(xiàn)或抹除系統(tǒng)
G11B7-004 .記錄、重現(xiàn)或抹除方法;為此所用的讀、寫(xiě)或抹除電路
G11B7-007 .記錄載體上信息的排列,例如,軌跡的形式
G11B7-08 .傳感頭或光源相對(duì)于記錄載體的配置或安裝
G11B7-12 .換能頭,例如光束點(diǎn)的形成或光束的調(diào)制
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