[發明專利]曝光設備和曝光方法

無效

• 申請號: 200680008332.8
• 申請日: 2006-03-09
• 公開（公告）號: CN101142534A
• 公開（公告）日: 2008-03-12
• 發明（設計）人: 岡崎洋二;石川弘美
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 張成新

1.一種曝光設備，包括：

光源，用于發射曝光光線；

空間光調制器，用于基于圖像信號、對從光源發出的曝光光線進行空間光調制；

成像裝置，用于以曝光光線在感光材料上形成圖像，其中所述曝光光線已經進行了空間光調制；以及

焦點調整裝置，用于在通過已經進行了空間光調制的曝光光線將圖像形成在感光材料上時，通過改變已經進行了的空間光調制的曝光光線的光程長度來調焦，其中成像裝置僅通過它的基本上成矩形的包括其中心部分的區域，用已經進行了空間光調制的曝光光線形成圖像。

2.根據權利要求1所述的曝光設備，其中，所述成像裝置通過成像裝置的基本上成矩形的區域、用已經進行了空間光調制的曝光光線形成圖像，其中所述矩形區域的較長邊的長度為其較短邊長度的兩倍或更多倍。

3.根據權利要求1或2所述的曝光設備，其中，所述焦點調整裝置包括一對楔形棱鏡，所述楔形棱鏡的沿已經進行了空間光調制的曝光光線的光軸方向的厚度是變化的，其中，當用已經進行了空間光調制的曝光光線在感光材料上形成圖像時，通過移動一對楔形棱鏡中的至少一個楔形棱鏡進行調焦。

4.根據權利要求1或2所述的曝光設備，其中，所述焦點調整裝置包括光學系統和壓電元件，并且其中當用已經進行了空間光調制的曝光光線在感光材料上形成圖像時，通過調整從所述光學系統到所述感光材料的距離進行調焦。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的曝光設備，其中，所述成像裝置包括透鏡，并且其中所述成像裝置能圍繞透鏡的光軸轉動或相對于其光軸垂直移動。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的曝光設備，其中，所述光源是發射由半導體激光元件發出的激光束的激光光源。

7.根據權利要求6所述的曝光設備，其中，所述激光光源是由多根光纖捆綁在一起形成的束型光纖光源，且其中，由半導體激光元件發出的激光束入射到每個光纖的一端并從其另一端發射出。

8.根據權利要求7所述的曝光設備，其中，所述光纖光源通過使激光束入射到單根光纖上，來多路復用多個半導體激光元件發出的激光束。

9.一種曝光方法，包括以下步驟：

發射曝光光線；

基于圖像信號，對發射的曝光光線進行空間光調制；

通過成像裝置、用已經進行了空間光調制的曝光光線在感光材料上形成圖像；以及

當用已經進行了空間光調制的曝光光線在感光材料上形成圖像時，通過改變已經進行了空間光調制的曝光光線的光程長度進行調焦，其中在形成圖像的步驟中，僅通過成像裝置的基本上成矩形的包括其中心部分的區域、用已經進行了空間光調制的曝光光線形成圖像，并且，其中曝光以如下方式進行：基本上成矩形的區域的較短邊的方向為感光材料的波紋方向。

10.根據權利要求9所述的曝光方法，其中在發射曝光光線的步驟中，由半導體激光元件發射的激光束作為曝光光線發射。