[發明專利]用于化學機械拋光研磨液組合物的氧化劑有效
| 申請號： | 200680008151.5 | 申請日： | 2006-03-08 |
| 公開（公告）號： | CN101142293A | 公開（公告）日： | 2008-03-12 |
| 發明（設計）人： | 樸鐘大;金東完 | 申請（專利權）人： | 株式會社東進世美肯 |
| 主分類號： | C09K3/14 | 分類號： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 | 代理人： | 王達佐;韓克飛 |
| 地址： | 韓國仁*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 化學 機械拋光 研磨 組合 氧化劑 | ||
1.用于化學機械拋光研磨液組合物的氧化劑的制備方法，其包括下述步驟：
通過將鐵鹽和5℃或更低的冷水混合來制備鐵鹽水溶液；以及
通過將硅鹽與所述鐵鹽水溶液混合并攪拌以進行所述硅鹽的反應來制備納米合成顆粒，其中所述納米合成顆粒為含鐵的膠態硅。
2.如權利要求1所述的用于化學機械拋光研磨液組合物的氧化劑的制備方法，其中所述鐵鹽為FeCl3，并且所述硅鹽為SiCl4。
3.如權利要求1所述的用于化學機械拋光研磨液組合物的氧化劑的制備方法，其中所述鐵鹽在所述鐵鹽水溶液中的濃度為0.1至99.0mol％。
4.如權利要求1所述的用于化學機械拋光研磨液組合物的氧化劑的制備方法，其中所述硅鹽中Si的摩爾量為所述鐵鹽中Fe的摩爾量的2至10倍。
5.如權利要求1所述的用于化學機械拋光研磨液組合物的氧化劑的制備方法，其還包括除去所述水合反應溶液中陰離子的步驟。
6.如權利要求5所述的用于化學機械拋光研磨液組合物的氧化劑的制備方法，其中通過用膜對所述水合反應溶液進行透析來進行所述除去陰離子的步驟。
7.氧化劑水溶液，其含有：
含鐵的膠態硅納米合成顆粒，其中所述納米合成顆粒的量為所述氧化劑水溶液總重量的0.1至20％；
以及水。
8.如權利要求7所述的氧化劑水溶液，其中所述氧化劑水溶液被用于制備用于拋光金屬層的CMP研磨液組合物，所述金屬層選自含鎢的金屬層、含鈦的金屬層以及含氮化鈦的金屬層。
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