[發(fā)明專利]正型抗蝕劑組合物及抗蝕圖案的形成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680003225.6
• 申請日: 2006-01-25
• 公開（公告）號: CN101107567A
• 公開（公告）日: 2008-01-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 竹下優(yōu)
• 申請（專利權(quán)）人: 東京應(yīng)化工業(yè)株式會社
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039;H01L21/027
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 朱丹

1.一種正型抗蝕劑組合物，其中含有在酸的作用下堿溶性增大的樹脂成分(A)和通過曝光產(chǎn)生酸的酸產(chǎn)生劑成分(B)，所述樹脂成分(A)是共聚物(A1)和共聚物(A2)的混合物，所述共聚物(A1)具有衍生自含有酸離解性溶解抑制基的丙烯酸酯的結(jié)構(gòu)單元(a1)、衍生自含有含內(nèi)酯的單環(huán)式基的甲基丙烯酸酯的結(jié)構(gòu)單元(a2)和衍生自含有含極性基的多環(huán)式基的丙烯酸酯的結(jié)構(gòu)單元(a3)，所述共聚物(A2)具有不同于所述共聚物(A1)的結(jié)構(gòu)，而且親水性低于所述共聚物(A1)。

2.如權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑組合物，其中所述共聚物(A1)的接觸角為40度以下。

3.如權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑組合物，其中所述共聚物(A2)的接觸角為45度以上60度以下。

4.如權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑組合物，其中所述共聚物(A1)的接觸角為40度以下，所述共聚物(A2)的接觸角為45度以上60度以下。

5.如權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑組合物，其中所述共聚物(A2)以20-80摩爾％的比例含有衍生自丙烯酸酯的結(jié)構(gòu)單元。

6.如權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑組合物，其中所述共聚物(A2)是具有衍生自含有酸離解性溶解抑制基的(α-低級烷基)丙烯酸酯的結(jié)構(gòu)單元(a1’)、衍生自含有含內(nèi)酯的單環(huán)或多環(huán)式基的(α-低級烷基)丙烯酸酯的結(jié)構(gòu)單元(a2’)和衍生自含有含極性基的多環(huán)式基的(α-低級烷基)丙烯酸酯的結(jié)構(gòu)單元(a3’)的共聚物。

7.如權(quán)利要求6所述的正型抗蝕劑組合物，其中所述結(jié)構(gòu)單元(a2’)是衍生自含有含內(nèi)酯的多環(huán)式基的(α-低級烷基)丙烯酸酯的結(jié)構(gòu)單元。

8.如權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑組合物，其中所述共聚物(A1)是含有下述通式(A1-1)所示的三個結(jié)構(gòu)單元的共聚物，

9.如權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑組合物，其中所述共聚物(A2)是含有下述通式(A2-1)所示的三個結(jié)構(gòu)單元的共聚物，

10.如權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑組合物，其中所述樹脂成分(A)中，所述共聚物(A1)和所述共聚物(A2)的混合比(質(zhì)量比)在共聚物(A1)∶共聚物(A2)＝20∶80-80∶20的范圍內(nèi)。

11.如權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑組合物，其中還含有含氮有機化合物(D)。

12.一種抗蝕圖案的形成方法，其中包括使用權(quán)利要求1-11中任何一項記載的正型抗蝕劑組合物在基板上形成抗蝕劑膜的工序、對所述抗蝕劑膜進行曝光的工序、使所述抗蝕劑膜顯影而形成抗蝕圖案的工序。