[發明專利]含有超順磁晶體的涂覆聚合物顆粒的制備方法

有效

• 申請號: 200680002458.4
• 申請日: 2006-01-17
• 公開（公告）號: CN101107525A
• 公開（公告）日: 2008-01-16
• 發明（設計）人: 蓋爾·弗納姆;拉爾斯·基拉斯;阿爾維德·特呂格弗·貝格;湯姆－尼爾斯·尼爾森;露特·施密德;莫達爾·格雷特
• 申請（專利權）人: 因維特羅根戴諾公司
• 主分類號: G01N33/543
• 分類號: G01N33/543;G01N33/544;H01F1/06
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 王允方;劉國偉

1.含有超順磁晶體的涂覆聚合物顆粒的制備方法，所述方法包括使直徑在0.5μm以下、表面官能化的、含超順磁晶體的聚合物顆粒與至少一種聚異氰酸酯和至少一種二醇反應。

2.如權利要求1所述的方法，其中至少兩種二醇被使用。

3.如權利要求1所述的方法，其中所述二醇選自聚乙二醇或是分子式為HO((CH₂)_mO)_nH的二醇(其中n是1到15的整數，以及m是2到6的整數)。

4.如權利要求2所述的方法，其中所述二醇是二甘醇和四甘醇。

5.如權利要求2所述的方法，其中所述二醇之一是聚乙二醇。

6.如權利要求1所述的方法，其中所述聚異氰酸酯是4，4-亞甲基雙(異氰酸苯酯)或含有具有CH₂-異氰酸苯酯殘基的4，4-亞甲基雙(異氰酸苯酯)的聚異氰酸酯。

7.如權利要求1所述的方法，其中所述聚異氰酸酯是二異氰酸酯。

8.如權利要求1所述的方法，其中所述顆粒在第一階段與聚異氰酸酯的混合物和至少一種二醇反應，其中所述聚異氰酸酯的摩爾濃度相對于所述二醇(一種或多種)過量，并且在第二階段中，隨后與至少一種二醇反應。

9.如權利要求8所述的方法，其中兩種二醇在所述反應的所述第一階段中被使用，并且在所述第二階段中一種或兩種二醇被使用。

10.如權利要求9所述的方法，其中二甘醇和四甘醇在所述反應的兩個階段被使用。

11.如權利要求1所述的方法，其中所述顆粒在第一階段在不存在二醇下與聚異氰酸酯反應，并且在第二階段與至少一種二醇反應。

12.如權利要求11所述的方法，其中一種二醇被使用，并且所述二醇是聚乙二醇。

13.如權利要求1所述的方法，其中所述顆粒是胺官能化的。

14.如權利要求1所述的方法，其中所述表面官能化聚合物顆粒是經硝化和還原的苯乙烯-二乙烯基苯聚合物顆粒。

15.如權利要求1所述的方法，其中所述聚合物顆粒的直徑在150到250nm之間。

16.如權利要求1所述的方法，其中所述涂覆顆粒隨后被甲苯磺酰化。

17.如權利要求1所述的方法，其中在所述涂布反應之后，所述顆粒被偶聯到藥物分子、報告部分或配體。

18.如權利要求17所述的方法，其中所述配體是單克隆抗體、多克隆抗體、抗體片段、核酸、寡核苷酸、蛋白質、寡肽、多糖、糖、肽、編碼肽的核酸分子、抗原或藥物。

19.如權利要求18所述的方法，其中所述配體是鏈霉抗生物素蛋白。

20.一種顆粒，其通過權利要求1所述的方法可得到。

21.如權利要求20所述的顆粒在測定中的用途。

22.如權利要求21所述的用途，其中所述測定是核酸檢測或是免疫測定。

23.如權利要求21所述的顆粒在疏水作用色譜法或反相色譜法中的用途。