[發明專利]圖像曝光設備和微透鏡陣列單元

無效

• 申請號: 200680002028.2
• 申請日: 2006-01-06
• 公開（公告）號: CN101103312A
• 公開（公告）日: 2008-01-09
• 發明（設計）人: 石川弘美
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027;H05K3/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 張成新

1.一種圖像曝光設備，包括：

空間光學調制裝置，所述空間光學調制裝置包括大量的兩維排列的像素區，每一個用于調制照射在其上的光；

光源，用于將光照射在所述空間光學調制裝置上；以及

圖像聚焦光學系統，所述圖像聚焦光學系統用于將通過所述空間光學調制裝置調制的光所表現的圖像聚焦在感光材料上，所述圖像聚焦光學系統包括：將從空間光學調制裝置的每一個像素區反射的光會聚的圖像聚焦透鏡；和微透鏡陣列，其具有布置在由所述圖像聚焦透鏡聚焦的每一個像素區的圖像位置處的多個微透鏡，

其中所述微透鏡陣列被容納在具有兩個透明部分的殼體中，所述透明部分分別用于透射將要通過微透鏡陣列的光和透射已經通過微透鏡陣列的光。

2.根據權利要求1所述的圖像曝光設備，其中，所述透明部分中的至少一個由平行板制成。

3.根據權利要求1所述的圖像曝光設備，其中，所述透明部分中的至少一個包括組成所述圖像聚焦光學系統的所述透鏡。

4.根據權利要求1-3中的任一項所述的圖像曝光設備，其中，所述殼體內部的空氣由氮氣、氧氣或干燥的空氣取代，從而所述殼體的內部充滿了氮氣、氧氣或干燥的空氣。

5.根據權利要求1-4中的任一項所述的圖像曝光設備，其中，所述光的波長是在350到450nm的范圍之中。

6.根據權利要求1-5中的任一項所述的圖像曝光設備，其中，孔陣列被布置在所述微透鏡陣列的前側或后側，所述孔陣列具有孔，孔中的每一個都與所述微透鏡陣列的微透鏡中的每一個相對應；并且，其中所述孔陣列被容納在所述殼體中。

7.一種微透鏡陣列單元，包括：

微透鏡陣列，所述微透鏡陣列具有成陣列排列的微透鏡；以及

殼體，所述殼體用于容納微透鏡陣列，所述殼體具有兩個透明部分，所述透明部分分別用于透射將要通過微透鏡陣列的光和透射已經通過微透鏡陣列的光。