[實(shí)用新型]一種實(shí)現(xiàn)方管結(jié)晶器連續(xù)差厚鍍層的流鍍裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200620132281.7 | 申請(qǐng)日: | 2006-08-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201092588Y | 公開(公告)日: | 2008-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鐵軍;姜濤;李劍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 鐵軍;姜濤;李劍 |
| 主分類號(hào): | C25D5/16 | 分類號(hào): | C25D5/16;B22D11/057 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100027北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 實(shí)現(xiàn) 結(jié)晶器 連續(xù) 鍍層 裝置 | ||
1.一種實(shí)現(xiàn)方管結(jié)晶器連續(xù)差厚鍍層的流鍍裝置,包括鍍液儲(chǔ)槽(18)、入口泵(17)、進(jìn)液閥(16)、入口流量計(jì)(13)、下流鍍罩(5)、方管結(jié)晶器(3)、陽極(2)、上流鍍罩(1)、溢流管(8)、溢流閥(10)、出口流量計(jì)(11)共同組成一個(gè)封閉的流鍍系統(tǒng),其特征在于下流鍍罩(5)的進(jìn)液口(12)與入口流量計(jì)(13)之間安裝一個(gè)分流閥(14),該分流閥(14)下接分流流量計(jì)(15),再經(jīng)管道接至鍍液儲(chǔ)糟(18)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種實(shí)現(xiàn)方管結(jié)晶器連續(xù)差厚鍍層的流鍍裝置,其特征在于虹吸管(7)由陽極(2)引出、經(jīng)上流鍍罩(1)穿出后接虹吸閥(9),該虹吸管(7)頂端最高點(diǎn)的高度低于溢流口(6),虹吸管(7)、虹吸閥(9)與溢流管(8)、溢流閥(10)并聯(lián)接至出口流量計(jì)(11),再經(jīng)管道接至鍍液儲(chǔ)糟(18)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于鐵軍;姜濤;李劍,未經(jīng)鐵軍;姜濤;李劍許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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