[發明專利]熱轉印裝置及以其制作顯示器的方法

有效

• 申請號: 200610172289.0
• 申請日: 2006-12-30
• 公開（公告）號: CN101172431A
• 公開（公告）日: 2008-05-07
• 發明（設計）人: 路智強;林雁容
• 申請（專利權）人: 財團法人工業技術研究院
• 主分類號: B41M5/00
• 分類號: B41M5/00;B41M5/382;B41M5/46;G02F1/01
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 湯在彥

1.一種熱轉印裝置，其特征在于，所述熱轉印裝置包括：

一熱轉印層，在施予外加能量于該熱轉印層時，該熱轉印層可產生光調變作用；

一印刷頭，用以將熱能傳遞至該熱轉印層；

至少一熱轉印單元，是由該熱轉印層吸收熱能而形成；及

一基板，其接受該至少一熱轉印單元，以于該基板上形成至少一光調變單元。

2.如權利要求1所述的熱轉印裝置，其特征在于，該印刷頭包含一光熱轉換元件，以將熱能傳遞至該熱轉印層。

3.如權利要求1所述的熱轉印裝置，其特征在于，該熱轉印層包含液晶、包覆型液晶、包覆型電泳顯示介質、包覆型液態粉體顯示介質或包覆型電濕潤顯示介質。

4.如權利要求3所述的熱轉印裝置，其特征在于，該包覆型液晶包含包覆對掌性向列型液晶。

5.如權利要求1所述的熱轉印裝置，其特征在于，其中施予在該熱轉印層的外加能量是由為電場、電磁波或熱源提供。

6.一種熱轉印裝置，其特征在于，包括：

一熱轉印介質，其包含一熱轉印層及一光熱轉換層，該熱轉印層在施予外加能量時可產生光調變作用；

一印刷頭，其傳導電磁波至該熱轉印介質，以通過該光熱轉換層將光轉換成熱能；

至少一熱轉印單元，其是由該熱轉印層吸收熱能而形成；及

一基板，接受該至少一熱轉印單元，以在該基板上形成至少一光調變單元。

7.如權利要求6所述的熱轉印裝置，其特征在于，該熱轉印層包含液晶、包覆型液晶、包覆型電泳顯示介質、包覆型液態粉體顯示介質或包覆型電濕潤顯示介質。

8.如權利要求7所述的熱轉印裝置，其特征在于，該包覆型液晶包含包覆對掌性向列型液晶。

9.如權利要求6所述的熱轉印裝置，其特征在于，其中施予在該熱轉印層的外加能量是由電場、電磁波或熱源提供。

10.一種顯示器熱轉印制作方法，其包括：

提供一第一基板，其具有至少一第一像素電極形成于其上面；

提供一熱轉印層于該第一像素電極上方，其中該熱轉印層在施予外加能量時可產生光調變作用；

提供熱能予該熱轉印層的至少一定義區域，以使該至少一定義區域吸收熱能后，形成至少一熱轉印單元并沉積于對應的一該第一像素電極上；及

形成至少一第二像素電極于該至少一熱轉印單元上，以構成至少一像素，以供做至少一光調變單元。

11.如權利要求10所述的顯示器熱轉印制作方法，其特征在于，該方法還包含形成一第二基板于該至少一第二像素電極上方。

12.如權利要求10所述的顯示器熱轉印制作方法，其特征在于，該沉積步驟包含干燥制程。

13.如權利要求10所述的顯示器熱轉印制作方法，其特征在于，該沉積步驟包含表面聚合制程。

14.如權利要求10所述的顯示器熱轉印制作方法，其特征在于，該方法還包含形成一格狀結構物于所述第一像素電極上。

15.如權利要求14所述的顯示器熱轉印制作方法，其特征在于，該至少一熱轉印單元沉積于該格狀結構物的一格子內。

16.如權利要求11所述的顯示器熱轉印制作方法，其特征在于，該熱轉印層包含液晶、包覆型液晶、包覆型電泳顯示介質、包覆型液態粉體顯示介質或包覆型電濕潤顯示介質。

17.如權利要求16所述的顯示器熱轉印制作方法，其特征在于，該包覆型液晶包含包覆對掌性向列型液晶。

18.一種顯示器熱轉印制作方法，其包括：

提供一熱轉印層于一第一基板上；

提供熱能予該熱轉印層的至少一定義區域，以形成至少一熱轉印單元，該至少一熱轉印單元脫離該熱轉印層并沉積于該第一基板上而對應該至少一定義區域；

其中該至少一熱轉印單元在施予外加能量時，可供做一光調變單元。

19.如權利要求18所述的顯示器熱轉印制作方法，其特征在于，該方法還包含形成一第二基板于該至少一熱轉印單元上。