[發明專利]光刻設備和使用干涉測量和無掩模曝光單元的裝置制造法無效
| 申請號： | 200610169375.6 | 申請日： | 2006-12-19 |
| 公開（公告）號： | CN1987660A | 公開（公告）日： | 2007-06-27 |
| 發明（設計）人： | K·Z·特羅斯特;A·J·布利克 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 張雪梅;梁永 |
| 地址： | 荷蘭費*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 設備 使用 干涉 測量 無掩模 曝光 單元 裝置 制造 | ||
【說明書】：
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