[發(fā)明專利]內(nèi)置式直流無(wú)刷馬達(dá)的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200610167442.0
• 申請(qǐng)日: 2006-12-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101207315A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 余培煜;羅志忠;黃淑娥;張鈺炯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院
• 主分類號(hào): H02K29/00
• 分類號(hào): H02K29/00;H02K1/27
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 孫皓晨

1.一種內(nèi)置式直流無(wú)刷馬達(dá)的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其包括有：

一轉(zhuǎn)子；

多片磁石，是嵌設(shè)于所述轉(zhuǎn)子內(nèi)；

多個(gè)的凹槽，是設(shè)置于所述兩相鄰磁石的端面之間；以及

至少一凸部，是設(shè)置于所述多個(gè)的凹槽之間；

通過(guò)所述凹槽與凸部的結(jié)構(gòu)而使所述轉(zhuǎn)子具有一不等半徑的周緣。

2.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)置式直流無(wú)刷馬達(dá)的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述轉(zhuǎn)子中心至所述凸部的距離是小于所述轉(zhuǎn)子的半徑。

3.如權(quán)利要求2所述的內(nèi)置式直流無(wú)刷馬達(dá)的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述轉(zhuǎn)子中心至所述凸部的距離為(0.7～0.95)R0，其中，R0為所述轉(zhuǎn)子的半徑。

4.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)置式直流無(wú)刷馬達(dá)的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述轉(zhuǎn)子磁石分布的電氣角是位于80～100度的范圍內(nèi)。

5.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)置式直流無(wú)刷馬達(dá)的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述凹槽與所述凸部是間隔設(shè)置。

6.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)置式直流無(wú)刷馬達(dá)的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述凸部是對(duì)稱于所述轉(zhuǎn)子的q軸設(shè)置。

7.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)置式直流無(wú)刷馬達(dá)的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述凹槽是對(duì)稱于所述轉(zhuǎn)子的q軸設(shè)置。

8.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)置式直流無(wú)刷馬達(dá)的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述凹槽的深度是涵蓋所述磁石的端面。