[發明專利]模具制造方法有效
| 申請號: | 200610161878.9 | 申請日: | 2006-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN101097399A | 公開(公告)日: | 2008-01-02 |
| 發明(設計)人: | 金珍郁;南研熙 | 申請(專利權)人: | LG.菲利浦LCD株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 | 代理人: | 徐金國;祁建國 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 模具 制造 方法 | ||
1.一種制造模具的方法,包括:
在主基板和透明模具基板之間形成光可聚合樹脂層,其中在所述主基板上 形成有第一圖案;
通過將所述樹脂層曝光于透過所述透明模具基板的第一UV光而第一次 硬化該樹脂層;
通過在所述樹脂層與所述模具基板結合的情況下將已硬化的該樹脂層與 所述主基板分離而形成第二圖案,其中所述第二圖案以凹陷形式位于所述樹脂 層上對應所述第一圖案的部分處;以及
通過將已硬化的該樹脂層直接曝光于第二UV光而第二次硬化已硬化的 該樹脂層,從而獲得模具;
其中,通過調節第一次和第二次硬化步驟中的第一和第二UV光強度和照 射周期其中至少之一來改變該樹脂層的表面能;
所述通過調節第一次和第二次硬化步驟中的第一和第二UV光強度和照 射周期其中至少之一來改變該樹脂層的表面能包括:為了降低模具的表面能, 在第一次硬化步驟的條件相同的情況下,在第二次硬化步驟中增加第二UV光 強度和照射周期;以及,為了降低模具的表面能,在第二次硬化步驟的條件相 同的情況下,增加第一UV光強度。
2.根據權利要求1的方法,其特征在于,所述樹脂層包含光可聚合液體 高分子前體。
3.根據權利要求1的方法,其特征在于,所述第一硬化步驟還包括:將 UV光對該樹脂層以2至20mW/cm2的強度照射5至15秒鐘。
4.根據權利要求3的方法,其特征在于,所述第一硬化步驟還包括:將 UV光對該樹脂層以大約3mW/cm2的強度照射大約10秒鐘。
5.根據權利要求3的方法,其特征在于,所述第一硬化步驟還包括:將 UV光對該樹脂層以大約11mW/cm2的強度照射大約10秒鐘。
6.根據權利要求2的方法,其特征在于,所述樹脂層包含聚氨酯丙烯酸 酯、縮水甘油基芳基化物和甲基丙烯酸丁酯其中之一。
7.根據權利要求6的方法,其特征在于,所述樹脂層還包含光引發劑。
8.根據權利要求2的方法,其特征在于,所述樹脂層的形成步驟還包括: 在該主基板上涂覆樹脂,以及將具有已涂覆在其上的該樹脂的該主基板粘合到 該模具基板。
9.根據權利要求2的方法,其特征在于,所述樹脂層的形成步驟還包括: 在該模具基板上涂覆樹脂,并將具有已涂覆在其上的該樹脂的該模具基板粘合 到該主基板。
10.根據權利要求2的方法,其特征在于,所述主基板包含硅和玻璃其中 之一。
11.根據權利要求10的方法,其特征在于,所述第一圖案包含無機材料 和有機材料其中之一,其中所述無機材料由二氧化硅、硅的氮化物、金屬構成, 所述有機材料由抗蝕劑和蠟構成。
12.根據權利要求1的方法,其特征在于,在第二次硬化步驟中UV光照 射該樹脂層的照射周期長于在第一次硬化步驟中的照射周期。
13.根據權利要求12的方法,其特征在于,在第二次硬化步驟中UV光 照射該樹脂層的照射周期是第一次硬化步驟中照射周期的6至30倍。
14.根據權利要求13的方法,其特征在于,在第一次和第二次硬化步驟 中照射該樹脂層的UV光具有相同的UV光強度。
15.根據權利要求14的方法,其特征在于,所述UV光具有大約3mW/cm2和大約11mW/cm2的強度其中之一。
16.根據權利要求13的方法,其特征在于,在第一次硬化步驟中照射該 樹脂層的UV光具有大約3mW/cm2的強度,并且在第二次硬化步驟中照射該 樹脂層的UV光具有大約11mW/cm2的強度。
17.根據權利要求13的方法,其特征在于,在第一次硬化步驟中照射該 樹脂層的UV光具有大約11mW/cm2的強度,并且在第二次硬化步驟中照射 該樹脂層的UV光具有大約3mW/cm2的強度。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





