[發(fā)明專利]屏氣MR成像方法,MRI裝置,屏氣斷層攝影成像方法，和斷層攝影成像裝置無(wú)效

申請(qǐng)?zhí)枺?/td>	200610153957.5	申請(qǐng)日：	2006-09-15
公開（公告）號(hào)：	CN1931089A	公開（公告）日：	2007-03-21
發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：	巖館雄治;野崎敦;塚元鐵二;椛澤宏之	申請(qǐng)（專利權(quán)）人：	GE醫(yī)療系統(tǒng)環(huán)球技術(shù)有限公司
主分類號(hào)：	A61B5/055	分類號(hào)：	A61B5/055;G01R33/28;G01R33/48
代理公司：	中國(guó)專利代理(香港)有限公司	代理人：	王小衡;劉杰
地址：	美國(guó)威***	國(guó)省代碼：	美國(guó);US
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摘要：
搜索關(guān)鍵詞：	屏氣 mr 成像方法 mri 裝置斷層攝影
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