[發(fā)明專利]用于濺射腔室的靶材和工藝套件組件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200610145254.8 | 申請(qǐng)日: | 2006-11-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN1982501A | 公開(公告)日: | 2007-06-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 艾倫·亞歷山大·里奇;唐尼·揚(yáng);揚(yáng)·理查德·洪;凱瑟琳·A·沙伊貝爾;烏梅什·凱爾卡 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 應(yīng)用材料股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/35 | 分類號(hào): | C23C14/35;C23C14/14;C23C14/46 |
| 代理公司: | 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 徐金國(guó);梁揮 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 濺射 工藝 套件 組件 | ||
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





