[發(fā)明專利]形成相變材料薄膜的方法及制造相變存儲器件的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610121685.0 | 申請日： | 2006-08-28 |
| 公開（公告）號： | CN101000946A | 公開（公告）日： | 2007-07-18 |
| 發(fā)明（設計）人： | 申雄澈;姜閏浩 | 申請（專利權）人： | 三星電子株式會社 |
| 主分類號： | H01L45/00 | 分類號： | H01L45/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人： | 陶鳳波 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 形成 相變 材料 薄膜 方法 制造 存儲 器件 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于三星電子株式會社，未經(jīng)三星電子株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200610121685.0/2.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：缺陷檢查裝置及缺陷檢查方法
- 下一篇：紙張后處理裝置和紙張后處理方法
