[發(fā)明專利]金屬有機物化學氣相沉積設備反應腔的加熱系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200610118971.1
• 申請日: 2006-12-01
• 公開（公告）號: CN101191202A
• 公開（公告）日: 2008-06-04
• 發(fā)明（設計）人: 甘志銀;劉勝;羅小兵;徐天明
• 申請（專利權(quán)）人: 甘志銀
• 主分類號: C23C16/46
• 分類號: C23C16/46;C23C16/448
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所
• 代理人: 李平

1.一種金屬有機物化學氣相沉積設備反應腔的加熱系統(tǒng)，主要包括：反應氣體A進氣管道(1)，反應氣體B進氣管道(2)，反應氣體A預加熱石墨圓片(13)，石墨舟(11)，基座(4)，石英罩(9)，高頻感應加熱器(10)，石英罩(9)中心的通氣管(8)，冷卻介質(zhì)排氣管(6)，反應室(5)，其特征在于所述反應氣體A進氣管道(1)、氣體B進氣管道(2)設置于加熱系統(tǒng)頂部，反應氣體B進氣管道末端設有緩沖腔(12)、緩沖腔(12)的底部設有噴淋口(3)，噴淋口(3)的下方為基座(4)，噴淋口(3)與基座(4)之間形成一個反應室(5)，基座(4)的內(nèi)層為石英罩(9)，石英罩(9)與基座(4)之間形成一個空腔，空腔通過石英罩的中心管(8)和排氣管(6)與外界冷卻源連接，石英罩內(nèi)裝有高頻感應加熱器(10)，石墨舟(11)和反應氣體A預加熱石墨圓片(13)直接嵌套在基座(4)上，石墨圓片(13)設于氣體A的出口處，對氣體A進行預裂解。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬有機物化學氣相沉積設備反應腔的加熱系統(tǒng)，其特征在于所述基座(4)采用高溫時低熱導率的材料氮化硼、熔凝石英、氨化鋁或陶瓷材料制成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬有機物化學氣相沉積設備反應腔的加熱系統(tǒng)，其特征在于所述石英罩(9)采用高溫時低導熱率的材料氮化硼、熔凝石英、氨化鋁或陶瓷材料制成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬有機物化學氣相沉積設備反應腔的加熱系統(tǒng)，其特征在于所述反應氣體A預加熱石墨圓片(13)采用高熱導率耐高溫的材料制成。