[發明專利]一種用于邊緣球狀物去除檢測的測試晶圓及檢測方法有效
| 申請號: | 200610117986.6 | 申請日: | 2006-11-03 |
| 公開(公告)號: | CN101174573A | 公開(公告)日: | 2008-05-07 |
| 發明(設計)人: | 蕭永琮 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66;G03F7/16 |
| 代理公司: | 上海智信專利代理有限公司 | 代理人: | 王潔 |
| 地址: | 2012*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 邊緣 球狀物 去除 檢測 測試 方法 | ||
技術領域
本發明涉及邊緣球狀物去除工藝的檢測,特別涉及一種用于檢測邊緣球狀物去除寬度和偏移程度的測試晶圓以及檢測方法。
背景技術
在晶圓的光阻涂布過程中,由于旋轉產生的離心力的作用,使得晶圓上的光阻液逐漸往晶圓邊緣散布,導致光阻液累積在晶圓的邊緣形成突起殘留,進而導致后續工藝的污染狀況。為了去除累積于晶圓邊緣的光阻殘留,通常加入一道邊緣球狀物去除(Edge?Bean?Removal,EBR)步驟,俗稱洗邊,來去除晶圓邊緣的光阻殘留。
洗邊制程主要是由機臺控制,采用特殊的洗邊溶液,噴灑在晶圓邊緣的洗邊區域內,以溶解光阻殘余。洗邊的寬度可根據不同的工藝要求預先在機臺上設定。然而,由于機臺機械控制系統可能存在誤差,使得洗邊溶液的噴灑無法確保在晶圓邊緣的各個方向上都保持均勻,導致洗邊的寬度與設定值不一致,或者洗邊區域在晶圓上產生不對稱的偏移。因此,在完成洗邊步驟后還需要通過檢測來判斷該洗邊步驟是否符合工藝要求。
現有的檢測方法主要是利用標尺來測量洗邊的寬度,其測量結果并不精確,而且無法直觀地判斷出洗邊位置是否存在偏移,除此之外,采用標尺測量也容易造成晶圓的污染。因此,迫切需要一種既方便又直觀的EBR檢測方法。
發明內容
本發明的目的在于提供一種用于邊緣球狀物去除檢測的測試晶圓及檢測方法,通過該方法不僅能方便、快速地測量出邊緣球狀物去除的寬度,而且能直觀地判斷出是否存在偏移,此外,還能避免檢測過程中對晶圓造成的污染。
本發明的目的是這樣實現的:一種用于邊緣球狀物去除檢測的測試晶圓,其實質性特點在于:所述測試晶圓上下左右四個方位的邊緣處分別設有一組標記,每組標記由數個測試標記組成,每個測試標記具有均勻的刻度。
在上述的用于邊緣球狀物去除檢測的測試晶圓中,每組標記的數個測試標記的中心排列在一條直線上,且該直線穿過測試晶圓的中心。
在上述的用于邊緣球狀物去除檢測的測試晶圓中,所述的四組標記關于測試晶圓的中心對稱。
在上述的用于邊緣球狀物去除檢測的測試晶圓中,所述測試標記的刻度的線寬,根據邊緣球狀物去除精度設定。
本發明的另一方案是提供一種用于邊緣球狀物去除檢測的測試晶圓,其實質性特點在于:所述測試晶圓上下左右四個方位的邊緣處分別設有一組切向的平行刻度線,所述的刻度線是連續且均勻分布的,并且每間隔一定數量的刻度線設置一根較長的刻度線。
本發明的又一方案是提供一種邊緣球狀物去除檢測方法,其實質性特點在于,所述的方法包括下列步驟:(1)在測試晶圓上下左右四個方位的邊緣處分別設置一組標記,每組標記由數個測試標記組成,每個測試標記具有均勻的刻度;(2)將測試晶圓放在機臺上進行邊緣球狀物去除;(3)取下測試晶圓,測量邊緣球狀物去除寬度和偏移程度。
在上述的邊緣球狀物去除檢測方法中,還包括:根據步驟(3)的測量結果調整邊緣球狀物去除參數以滿足工藝要求。
本發明的用于邊緣球狀物去除檢測的測試晶圓及檢測方法,在測試晶圓的四個方位分別設置測試標記,由于這些測試標記具有特定線寬的均勻刻度,并且關于測試晶圓的中心對稱,因此,在邊緣球狀物去除步驟完成后,只需根據刻度即可計算出邊緣去除寬度,并可根據比較各方位上的測試標記判斷是否存在不對稱的位置偏移。測量過程可通過ADI測試機臺或人眼來完成,不會對晶圓造成任何污染。
附圖說明
本發明測試晶圓的具體結構及檢測方法由以下的實施例及附圖給出。
圖1為本發明測試晶圓的結構示意圖;
圖2為本發明檢測方法的流程圖;
圖3為經過邊緣球狀物去除步驟后的測試晶圓的結構示意圖;
圖4為本發明測試晶圓的另一種改良型結構示意圖。
具體實施方式
以下將結合附圖對本發明的用于邊緣球狀物去除檢測的測試晶圓及檢測方法作進一步的詳細描述。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中芯國際集成電路制造(上海)有限公司,未經中芯國際集成電路制造(上海)有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200610117986.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種具有容錯功能的磁軸承傳感器控制系統
- 下一篇:利用海藻粘膠纖維紡紗的方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





