[發明專利]可覆寫式光碟片無效
| 申請號: | 200610099223.3 | 申請日: | 2006-07-21 |
| 公開(公告)號: | CN101110238A | 公開(公告)日: | 2008-01-23 |
| 發明(設計)人: | 許智清;李滄隆 | 申請(專利權)人: | 錸德科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G11B7/24 | 分類號: | G11B7/24;G11B7/252;G11B7/256;G11B7/257 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 臺灣省新竹縣湖*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 可覆寫式光 碟片 | ||
1.一種可覆寫式光碟片,其特征在于其包括:
一第一基板;
一第二基板,配置于該第一基板之上;
一膠合層,配置于該第一基板與該第二基板之間;
一第一記錄層,配置于該第一基板與該膠合層之間;
一第一反射層,配置于該第一記錄層與該膠合層之間;
一第二記錄層,配置于該第二基板與該膠合層之間;
一第二反射層,配置于該第二記錄層與該第二基板之間;以及
一緩沖層,配置于該第二基板與該第二反射層之間。
2.如權利要求1所述的可覆寫式光碟片,其特征在于其中該緩沖層的材料包括硫化鋅-二氧化硅、一氧化物或一氮化物。
3.如權利要求2所述的可覆寫式光碟片,其特征在于其中該氧化物包括氧化鋁、氧化鍺、氧化鉻、氧化硅、氧化鈦、氧化鉬或氧化鎢。
4.如權利要求2所述的可覆寫式光碟片,其特征在于其中該氮化物包括氮化鋁、氮化鍺、氮化鉻、氮化硅、氮化鈦、氮化鉬或氮化鎢。
5.如權利要求1所述的可覆寫式光碟片,其特征在于其中該緩沖層的厚度介于5nm至130nm之間。
6.如權利要求1所述的可覆寫式光碟片,其特征在于其中該第一記錄層的材料包括鍺銻碲合金。
7.如權利要求1所述的可覆寫式光碟片,其特征在于其中該第二記錄層的材料包括鍺銻碲合金。
8.如權利要求1所述的可覆寫式光碟片,其特征在于更包括一第一介電層,配置于該第一記錄層與該第一基板之間。
9.如權利要求1所述的可覆寫式光碟片,其特征在于更包括一第二介電層,配置于該第一記錄層與該反射層之間。
10.如權利要求9所述的可覆寫式光碟片,其特征在于更包括一第一阻障層,配置于該第二介電層與該反射層之間。
11.如權利要求1所述的可覆寫式光碟片,其特征在于更包括一第三介電層,配置于該膠合層與該第二記錄層之間。
12.如權利要求1所述的可覆寫式光碟片,其特征在于更包括一第四介電層,配置于該第二記錄層與該第二反射層之間。
13.如權利要求12所述的可覆寫式光碟片,其特征在于更包括一第二阻障層,配置于該第四介電層與該第二反射層之間。
14.如權利要求1所述的可覆寫式光碟片,其特征在于更包括一穿透層,配置于該第一反射層與該膠合層之間。
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