[發明專利]薄膜的清除方法及其設備

無效

• 申請號: 200610080908.3
• 申請日: 2006-05-22
• 公開（公告）號: CN101078891A
• 公開（公告）日: 2007-11-28
• 發明（設計）人: 張加強;吳清吉;蔡陳德;林春宏
• 申請（專利權）人: 財團法人工業技術研究院
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司
• 代理人: 程偉

技術領域

本發明是關于一種薄膜的清除方法及其設備，特別是關于一種在大氣狀態下使用電漿清除薄膜的方法及設備。

背景技術

傳統液晶面板(TFT-LCD)的工序必須在干式及濕式之間反復切換，為了加快工序，目前面板廠都盡量將TFT-LCD的各工序在干式環境中進行，但是光阻的去除仍必須將面板浸泡于去光阻液中。

以浸泡方式去除光阻后，必須將面板加以風干，這樣造成工序成本的增加以及工序上的延誤，為適應大尺寸面板的需求，上述缺點將隨著面板尺寸的增大影響更嚴重。為了加快面板工序，某些廠商開始利用電漿清除光阻，電漿清除屬于干式工序，因此可使面板的整體工序都在干式環境下完成，就提高產量而言，原本以浸泡方式去除光阻的工序一小時可生產75片面板，改用電漿清除光阻后，產能可提高至一小時生產100～120片面板。

然而，電漿去除光阻的過程必須在真空環境下進行，且必須持續導入氣體并添加催化劑產生電漿，如此一來，在提高產能的同時也提高了工序成本。

為了降低產生電漿的成本，Dainippon?Screen?Mfg公司發展出一種在大氣下產生電漿進行表面清除的技術，請參閱圖1A，電極板1a、1b之間形成電場偏壓并在其中引導反應氣體A產生電漿，基材10可通過兩個電極板之間進行表面清除?；?0可以是要染色的布料或要進行表面接著的材料，基材10也可以是液晶面板，通過電漿的作用清除表面的光阻。

然而，將液晶面板直接通過電場后，經常發現面板上的電子元件遭受電場破壞，因此，Dainippon?Screen?Mfg公司又針對利用大氣電漿進行表面清除方式作了以下改良，請參閱圖1B，與圖1A的不同之處在于，基材10并非直接通過電極板1a、1b之間，它是使電極板1a、1b垂直于該基材10，并引導電漿垂直射向基材10，通過移動基材10使其完整地與電漿作用。然后可將產生電漿的相關裝置模塊化，成為一電漿噴嘴設備。

當基材10為表面具有光阻的液晶面板時，垂直射向面板的電漿可將大部份光阻去除，然而部份光阻未能與電漿反應完全，形成微粒狀副產物，此副產物會四散飛射，最后因重力原因散布于面板表面，如此一來，將影響面板的優良率。

為了解決電漿反應副產物的問題，有人提出將面板設在電漿產生器上方，將電漿垂直向上射向面板，利用重力使飛射的副產物自然掉落。但是，液晶面板的表面雖然看似平整，但卻具有許多微結構，正向射到面板表面的電漿，可輕易地將微結構正面的光阻去除，然而微結構側向上光阻就難以完全清除。另外，因大尺寸面板的需求與日俱增，在工序中將大尺寸面板翻轉會極為不便，必須設計特殊的懸掛機以固定面板，從而使成本增加，且大型面板會因懸空易形成彎曲。美國專利案第6659110號揭示一種將基片設在滾輪上解決電漿反應副產物的方法也有上述缺點。

因此，如何改善上述缺點，已成為業界亟待解決的問題。

發明內容

為克服上述現有技術的缺點，本發明的主要目的在于提供一種可清除電漿反應副產物的薄膜的清除方法及其設備。

本發明的又一目的在于提供一種薄膜的清除方法及其設備，提高液晶面板的優良率。

本發明的次一目的在于提供一種薄膜的清除方法及其設備，節省液晶面板的制造成本。

本發明的另一目的在于提供一種薄膜的清除方法及其設備，可完整清除液晶面板表面的光阻。

為實現上述及其它目的，本發明提供一種薄膜的清除方法，用于清除一基片上的薄膜，該薄膜的清除方法包括：在該基片上方設置一電漿產生器以及一抽氣裝置；以及調整該電漿產生器，使其噴射出的電漿束斜射于該薄膜上，該抽氣裝置設在對應該電漿束的反射路徑上，吸除該薄膜經電漿反應后，未反應完全而產生的副產物，保持該基片表面的清潔。

為實現上述及其它目的，本發明還揭示一種薄膜的清除設備，清除一基片表面上的薄膜，該薄膜的設備清除包括：電漿產生器，將電漿斜射到該薄膜，從該基片上清除薄膜；以及抽氣裝置，位于該電漿產生器射出電漿所對應的反射路徑上，吸取該薄膜經電漿反應后，未反應完全而產生的副產物，保持該基片表面的清潔。

該基片是液晶面板，該薄膜是光阻，為使電漿產生器完整地清除液晶面板上的光阻，可使該電漿產生器以及抽氣裝置對稱于一旋轉軸旋轉，且平行移動于該基片，具體而言，可提供一殼體包覆該電漿產生器以及抽氣裝置一體旋轉。