[發(fā)明專利]半導(dǎo)體器件的制造方法和晶片及其制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200610075575.5 | 申請(qǐng)日： | 2006-04-20 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1979342A | 公開(kāi)（公告）日： | 2007-06-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 巖本茂 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 富士通株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/66 |
| 代理公司： | 隆天國(guó)際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 王玉雙;鄭特強(qiáng) |
| 地址： | 日本神奈*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 半導(dǎo)體器件 制造 方法 晶片 及其 | ||
【說(shuō)明書(shū)】：
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
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