[發明專利]處理掩膜設計輸出要求的系統及方法無效
| 申請號： | 200610074184.1 | 申請日： | 2006-04-04 |
| 公開（公告）號： | CN1855106A | 公開（公告）日： | 2006-11-01 |
| 發明（設計）人： | 王心媺;曹標灼;陳予;陳思萍 | 申請（專利權）人： | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號： | G06F17/50 | 分類號： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 隆天國際知識產權代理有限公司 | 代理人： | 王玉雙;鄭特強 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 處理 設計 輸出 要求 系統 方法 | ||
【說明書】：
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