[發(fā)明專利]圖案形成裝置和方法,判斷位置的方法、測(cè)量設(shè)備和光刻裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200610073977.1 | 申請(qǐng)日： | 2006-02-01 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1904737A | 公開(kāi)（公告）日： | 2007-01-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | U·米坎;H·J·M·梅杰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20;H01L21/027;G06F17/00;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 梁永 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國(guó)省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 圖案 形成 裝置 方法 判斷 位置 測(cè)量 設(shè)備 光刻 | ||
【權(quán)利要求書(shū)】：
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- 專利分類
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
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