[發明專利]用于X射線投影的偽像校正的設備和方法無效
| 申請號: | 200580045585.8 | 申請日: | 2005-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN101095165A | 公開(公告)日: | 2007-12-26 |
| 發明(設計)人: | M·伯特拉姆;D·謝弗;J·韋格特 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T11/00 | 分類號: | G06T11/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 龔海軍;劉紅 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 射線 投影 校正 設備 方法 | ||
1、用于為了產生對象的重建圖像對所述對象的X射線投影(10)的數據組進行偽像校正的設備,包括:
估計單元(41),用于在X射線投影(11)中使用至少一個估計參數來估計在所述X射線投影中存在的偽像數量,
校正單元(41),用于通過使用所述估計來校正在X射線投影(11)中存在的所述偽像,
重建單元(42),用于通過使用包括所述已校正的X射線投影的所述X射線投影(10)的數據組來產生中間重建圖像,以及
評價單元(43),用于通過確定在所述中間重建圖像中的不均勻的定量測量來評價所述校正,并且用于通過使用由所述定量測量確定的已調整的估計參數以迭代地重復所述校正直到達到預定的停止標準,來優化所述校正。
2、如權利要求1所述的設備,
其中所述估計單元(41)適于使用單獨的估計參數來單獨地估計在多個X射線投影中存在的偽像數量,以及
其中所述校正單元(41)適于單獨地校正所述X射線投影(11)。
3、如權利要求1所述的設備,其中所述評價單元(43)適于調整基于所述定量測量的所述估計參數。
4、如權利要求1所述的設備,其中所述評價單元(43)適于通過在所述中間重建圖像中選擇具有預定范圍內,尤其是在水的圖像值附近的范圍內,的圖像值的體素,來確定在所述中間重建圖像中的不均勻的定量測量,所述被選擇體素的圖像值被用于確定所述定量測量。
5、如權利要求4所述的設備,其中所述評價單元(43)進一步適于通過使用關于所有體素的直方圖和通過采用圖像值的上下閾值選擇所述體素,來在所述中間重建圖像中選擇體素,所述閾值從所述直方圖的統計特性中獲得,尤其從擬合到所述直方圖的直方圖曲線的統計特性中獲得。
6、如權利要求5所述的設備,其中所述評價單元(43)進一步適于通過將體素曲線擬合到所選擇體素的圖像值和通過采用所述體素曲線的統計特性,來從所選擇體素的圖像值確定所述定量測量。
7、如權利要求1所述的設備,其中所述停止標準是預定數量的迭代、所述定量測量的預定值或所述定量測量的最小值,或者用于在隨后的迭代中所述定量測量的最小差值的預定值。
8、如權利要求1所述的設備,其中所述重建單元(42)適于產生低分辨率的中間重建圖像。
9、如權利要求1所述的設備,其中所述X射線投影(11)是低分辨率的X射線投影,尤其通過對原始高分辨率X射線投影進行二次抽樣而獲得。
10、如權利要求1所述的設備,所述設備適于散射校正,其中:
所述估計單元(41)適于在X射線投影(11)中使用至少一個估計參數來估計在所述X射線投影中存在的散射數量,
所述校正單元(41)適于通過從所述X射線投影的投影數據中減去所估計的散射來校正所述X射線投影(11),以及
所述評價單元(43)適于通過確定在所述中間重建圖像中剩余深拉的定量測量來評價所述校正,并且適于通過使用由所述定量測量確定的用于散射估計的已調整估計參數以迭代地重復所述校正直到達到預定的停止標準,來優化所述校正。
11、如權利要求10所述的設備,其中所述估計單元(41)適于根據在獲得所述X射線投影的X射線探測器的最小探測器值的散射分數來估計散射數量。
12、如權利要求1所述的設備,所述設備適于校正截斷的投影,其中:
所述估計單元(41)適于在X射線投影(11)中使用至少一個估計參數來估計在所述X射線投影中存在的截斷的程度,
所述校正單元(41)適于通過采用擴展因子或另一使用所述截斷估計的方法而擴展所述X射線投影來校正所述X射線投影,以及
所述評價單元(43)適于通過確定在所述中間重建圖像中深拉或壓蓋的定量測量來評價所述校正,并且適于通過使用由所述定量測量確定的用于截斷估計的已調整估計參數以迭代地重復所述校正直到達到預定的停止標準,來優化所述校正。
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