[發(fā)明專利]可重復(fù)使用的膠印版材和制造該膠印版材的方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200580044250.4
• 申請(qǐng)日: 2005-12-15
• 公開（公告）號(hào): CN101124095A
• 公開（公告）日: 2008-02-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: P·A·伯黙爾;D·容克斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: P·A·伯黙爾;D·容克斯
• 主分類號(hào): B41N1/08
• 分類號(hào): B41N1/08
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 王永建

1.用于單張膠印的膠印版材，所述膠印版材包括金屬基底和具有低導(dǎo)熱率的頂層，其特征在于，所述金屬基底為厚度在0.05mm和2mm之間的鋁基底，由陽(yáng)極氧化鋁構(gòu)成的具有低導(dǎo)熱率的中間層設(shè)置在所述金屬基底之上，其厚度在1μm和25μm之間，所述頂層由鈦和/或鉬或其合金構(gòu)成，其設(shè)置在所述中間層上，厚度在1μm和10μm之間。

2.如權(quán)利要求1所述的膠印版材，其特征在于，所述頂層利用物理氣相沉積提供。

3.如權(quán)利要求1或2所述的膠印版材，其特征在于，所述金屬基底的厚度在0.1mm和0.5mm之間，優(yōu)選為0.3mm。

4.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的膠印版材，其特征在于，所述中間層的厚度在2μm和10μm之間，優(yōu)選在3μm和5μm之間。

5.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的膠印版材，其特征在于，所述頂層的厚度在2μm和5μm之間，優(yōu)選在3μm和4μm之間。

6.制造如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的膠印版材的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

-提供一厚度在0.05mm和2mm之間的鋁基底；

-提供一位于所述金屬基底上、厚度在1μm和25μm之間的由陽(yáng)極氧化鋁制成的中間層；

-提供一位于所述中間層上、厚度在1μm和10μm之間的由鈦和/或鉬或其合金制成的頂層。

7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，由鈦和/或鉬或其合金制成的頂層利用物理氣相沉積提供。

8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述膠印版材經(jīng)受一光整處理。

9.如權(quán)利要求6、7或8所述的方法，其特征在于，所述鋁基底被陽(yáng)極氧化處理，以形成由陽(yáng)極氧化鋁制成的中間層。

10.如權(quán)利要求6-9中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述膠印版材被制造成連續(xù)帶。