[發明專利]用于非線性光學裝置的三環間隔基體系無效
| 申請號: | 200580036638.X | 申請日: | 2005-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN101087770A | 公開(公告)日: | 2007-12-12 |
| 發明(設計)人: | F·J·戈茨;F·J·小戈茨 | 申請(專利權)人: | 三階納米技術公司 |
| 主分類號: | C07D285/12 | 分類號: | C07D285/12;C08K5/01;A61K31/41;G03C1/725 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 | 代理人: | 郭廣迅 |
| 地址: | 美國特*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 非線性 光學 裝置 間隔 基體 | ||
1、一種式I所示的用于隔離非線性光學發色團的化合物或其商業上可接受的鹽,
式I
其中R3是C6-C10芳基、C6-C10雜芳基、4-10元雜環基或者C6-C10飽和的環狀基團;上述環狀部分中的1或2個碳原子任選地被氧代(=O)部分取代;和上述R3基團任選地被1至3個R5基團取代;
R1和R2獨立地選自R3定義中提供的取代基、(CH2)t(C6-C10芳基)或者(CH2)t(4-10元雜環),t是0至5的整數,和上述R1和R2基團任選地被1至3個R5基團取代;
R4獨立地選自R3定義中提供的取代基、化學鍵(-)或者氫;
每個Q1、Q2和Q4分別獨立地選自氫、鹵素、C1-C10烷基、C2-C10烯基、C2-C10炔基、硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、疊氮基、-OR5、-NR6C(O)OR5、-NR6SO2R5、-SO2NR5R6、-NR6C(O)R5、-C(O)NR5R6、-NR5R6、-S(O)jR7,其中j是0至2的整數、-NR5(CR6R7)tOR6、-(CH2)t(C6-C10芳基)、-SO2(CH2)t(C6-C10芳基)、-S(CH2)t(C6-C10芳基)、-O(CH2)t(C6-C10芳基)、-(CH2)t(4-10元雜環基)以及-(CR6R7)mOR6,其中m是1至5的整數,和t是0至5的整數;條件是當R4是氫時,Q4不存在;所述烷基任選地包含1或2個選自O、S以及-N(R6)-的雜原子部分;所述芳基和雜環Q基團任選地與(C6-C10)芳基、C5-C8飽和環狀基團,或者4-10元雜環基稠合;上述雜環部分中的1或2個碳原子任選地被氧代(=O)部分取代;和上述Q基團的烷基、芳基和雜環部分任選地被1至3個獨立地選自硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、疊氮基、-NR6SO2R5、-SO2NR5R6、-NR5C(O)R6、-C(O)NR5R6、-NR5R6、-(CR6R7)mOR6,其中m是1至5的整數、-OR5以及R5定義中所列出的取代基取代;
每個R5獨立地選自H、C1-C10烷基、-(CH2)t(C6-C10芳基),以及(CH2)t(4-10元雜環基),其中t是0至5的整數;所述烷基任選地包括1或2個選自O、S以及-N(R6)-的雜部分;所述芳基和雜環R5基團任選地與(C6-C10)芳基、C5-C8飽和環狀基團,或者4-10元雜環基團稠合;和上述的R5取代基,除了H,任選地被1至3個獨立地選自硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、疊氮基、-NR6C(O)R7、-C(O)NR6R7、-NR6R7、羥基、C1-C6烷基以及C1-C6烷氧基的取代基取代;
每個R6和R7獨立地是氫或C1-C6烷基;
X、Y和Z分別獨立地選自C(碳)、O(氧)、N(氮)和S(硫),并且包括在R3之內;
X、Y和Z彼此直接相鄰;
W是R3中的任何非氫原子,但不是X、Y或Z;以及
L是活潑基團或者非線性光學發色團。
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