[發明專利]投影光學設備和曝光裝置

有效

• 申請號: 200580029077.0
• 申請日: 2005-07-18
• 公開（公告）號: CN101052916A
• 公開（公告）日: 2007-10-10
• 發明（設計）人: 蛯原明光;馬丁·E·李;袁寶山
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03B27/32
• 分類號: G03B27/32;G03B27/42;G03B27/52
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司
• 代理人: 許天易;王艷江

1.一種投影光學設備，包括：

投影光學系統，其投影圖案的圖像；

支撐設備，其具有柔性結構以支撐所述投影光學系統；

定位設備，其具有致動器以定位所述投影光學系統；

其中，所述支撐設備具有振動隔離設備，所述振動隔離設備減小沿所述投影光學系統的光軸方向的振動，所述振動隔離設備設置在所述柔性結構的一端處。

2.如權利要求1所述的投影光學設備，其中所述柔性結構在垂直于所述投影光學系統的光軸的方向的特征頻率低于在平行于所述投影光學系統的光軸的方向的特征頻率。

3.如權利要求1所述的投影光學設備，其中所述柔性結構包括線材。

4.如權利要求3所述的投影光學設備，其中所述柔性結構包括耦聯到所述線材的彎曲部。

5.如權利要求4所述的投影光學設備，其中所述彎曲部是彈簧。

6.如權利要求1所述的投影光學設備，其中所述柔性結構的長度至少為1米。

7.如權利要求1所述的投影光學設備，其中所述柔性結構包括桿構件和設置在所述桿構件的至少一端上的彎曲部。

8.如權利要求7所述的投影光學設備，其中在所述桿構件的兩端上設置有彎曲部。

9.如權利要求1所述的投影光學設備，其中所述支撐設備從所述投影光學系統的上側支撐所述投影光學系統。

10.如權利要求1所述的投影光學設備，其中所述支撐設備從所述投影光學系統的下方支撐所述投影光學系統。

11.如權利要求1所述的投影光學設備，其中所述支撐設備包括框架，所述柔性結構的一端附連到所述框架，使得所述投影光學系統通過所述柔性結構從所述框架懸掛。

12.如權利要求11所述的投影光學設備，其中致動器相對于所述框架以非接觸的方式定位所述投影光學系統。

13.如權利要求12所述的投影光學設備，其中所述定位設備包括：

位移傳感器，其測量所述投影光學系統相對于所述框架的六個自由度的位移信息。

14.如權利要求1所述的投影光學設備，其中所述支撐設備通過固定到所述投影光學系統的側表面的凸緣部分支撐所述投影光學系統；并且還包括測量單元，其相對于所述凸緣部分被動力學地支撐，并且其設置有用于測量所述投影光學系統和預定構件之間的位置關系的傳感器。

15.如權利要求1所述的投影光學設備，其中形成有圖案的構件一體地固定到所述投影光學系統。

16.如權利要求15所述的投影光學設備，還包括微量移動機構，其相對于所述投影光學系統微量移動形成有圖案的所述構件。

17.如權利要求1所述的投影光學設備，其中所述支撐設備包括框架，所述柔性結構的一端附連到所述框架，使得所述投影光學系統通過所述柔性結構從所述框架懸掛；并且還包括：

基部，其通過振動隔離構件由所述框架支撐；和

平臺，其在所述基部上驅動形成有圖案的構件。

18.如權利要求17所述的投影光學設備，其中所述振動隔離構件包括樞軸和彎曲部中的一個。

19.如權利要求17所述的投影光學設備，還包括：

平衡塊，其在所述基部上移動，從而抵消由所述平臺的運動所產生的反作用力；和

彎曲部，其在所述基部上支撐所述平衡塊。

20.如權利要求1所述的投影光學設備，其中所述投影光學系統設置在向下流動的環境中。

21.如權利要求14所述的投影光學設備，其中所述測量單元包括激光干涉儀，并且，所述投影光學設備還包括局部氣體流動系統，所述局部氣體流動系統執行氣體相對于由所述激光干涉儀所使用的激光束的光路的局部向下流動。

22.如權利要求1所述的投影光學設備，還包括：

管子，其沿著所述投影光學系統的側表面設置；和

液體供應設備，其向所述管子供應冷卻液。

23.如權利要求1所述的投影光學設備，其中所述支撐設備包括三組彼此分離的柔性結構。