[發(fā)明專利]具有化學(xué)構(gòu)圖表面的軟平版印刷印模

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200580022183.6
• 申請日: 2005-06-27
• 公開（公告）號: CN101198902A
• 公開（公告）日: 2008-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: M·M·J·德克里;M·布利斯;P·P·J·范埃德;R·J·M·施羅德斯;D·布丁斯基;R·B·A·沙佩;J·胡斯肯斯
• 申請（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;H05K3/12
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 劉紅;王忠忠

1.一種用于使用印刷化合物在基片上產(chǎn)生被印刷區(qū)域的軟平版印刷印模(30)，該軟平版印刷印模(30)具有印模體，在印模體的表面處存在具有第一材料的第一區(qū)域和具有第二材料的第二區(qū)域，第一和第二區(qū)域之一對應(yīng)于要生成的被印刷區(qū)域，并且第一材料在印模體中具有塊，其中第二材料(36)毗鄰第一材料以防止被印刷區(qū)域的側(cè)向擴(kuò)大，其中第二材料(36)具有不同于第一材料的對印刷混合物的存儲能力和吸收能力，從而在印刷時(shí)，印刷化合物可以選擇性從第一或第二區(qū)域轉(zhuǎn)移到基片，以產(chǎn)生被印刷區(qū)域。

2.如權(quán)利要求1所述的軟平版印刷印模(30)，其中第二材料可通過僅在第二區(qū)域中改性第一材料獲得。

3.如權(quán)利要求2所述的軟平版印刷印模(30)，其中在印模體的第二區(qū)域的表面上存在第二材料的鈍化層。

4.如權(quán)利要求3所述的軟平版印刷印模(30)，其中該鈍化層具有的表面活性不同于第一區(qū)域的表面活性。

5.如前面任一權(quán)利要求所述的軟平版印刷印模(30)，其中：

第一區(qū)域作為印刷區(qū)(38)具有塊，該第一材料展現(xiàn)出在塊中對印刷化合物的存儲能力，以及

第二區(qū)域用作對印刷化合物的阻塞區(qū)(37)，且所述第二材料(36)展現(xiàn)出對印刷化合物基本沒有存儲和吸收能力。

6.如權(quán)利要求5所述的軟平版印刷印模(30)，該印模(30)包括具有突起單元(32)的模具(31)，模具和突起單元由所述第一或第二材料形成，其中當(dāng)模具和突起單元由所述第一材料形成時(shí)突起單元之間的間隙對應(yīng)填充所述第二材料，當(dāng)模具和突起單元由所述第二材料形成時(shí)突起單元之間的間隙對應(yīng)填充所述第一材料。

7.如權(quán)利要求4所述的軟平版印刷印模(30)，其中還有通過第一材料改性獲得的又一區(qū)域，其進(jìn)一步被提供有具有與第一和第二區(qū)域不同的表面活性的鈍化層，使得第一印刷化合物可選擇地被第一區(qū)域吸收和從第一區(qū)域印刷，且另一印刷化合物選擇性地被該又一區(qū)域吸收和從該又一區(qū)域印刷。

8.如權(quán)利要求6所述的軟平版印刷印模(30)，其中當(dāng)模具由第一材料形成時(shí)，其上的印刷區(qū)(38)和阻塞區(qū)(37)由第二材料的構(gòu)圖薄膜(40b)形成，當(dāng)模具由第二材料形成時(shí)，其上的印刷區(qū)(38)和阻塞區(qū)(37)由第一材料的構(gòu)圖薄膜(40b)形成。

9.如權(quán)利要求8所述的軟平版印刷印模(30)，其中構(gòu)圖薄膜具有100nm或更小的厚度。

10.一種包括如任一前面權(quán)利要求所述的軟平版印刷印模的印刷裝置，所述裝置具有：用于在印模的背離具有所述第一和第二區(qū)域的表面的一側(cè)局部提供壓力的裝置，使得所選的印模表面部分可以獨(dú)自向基片移動以便轉(zhuǎn)印印刷化合物。

11.一種用于形成軟平版印刷印模(30)的方法，該軟平版印刷印模(30)使用印刷化合物產(chǎn)生被印刷區(qū)域，該方法包括：

提供由第一材料形成的模型化印模體，其中印模體具有一表面；

以構(gòu)圖方式提供第二材料，從而在印模體的該表面上構(gòu)成第一區(qū)域和第二區(qū)域，其中第一區(qū)域中第一材料出現(xiàn)在該表面，而第二區(qū)域中第二材料出現(xiàn)在該表面，

其中第二材料(36)毗鄰第一材料，從而防止被印刷區(qū)域的側(cè)向擴(kuò)大，并且該第二材料選擇為具有不同于第一材料的對印刷混合物的存儲能力和吸收能力。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中該模型化印模體(31)由突起單元(32)形成，并通過填充所述突起單元(32)之間的間隙提供第二材料。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中該第二材料通過第一材料的局部改性提供。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中該第二材料隨后用第三材料的鈍化層覆蓋。

15.一種在根據(jù)權(quán)利要求13制造的印模的第二材料上選擇性地設(shè)置阻擋材料的方法。

16.使用如權(quán)利要求1到9任一項(xiàng)所述的印模在基片上產(chǎn)生被印刷區(qū)域。

17.使用如權(quán)利要求10所述的印刷裝置在基片上產(chǎn)生被印刷區(qū)域，其中該印模的被選區(qū)域以波狀移動方式單獨(dú)向基片移動。

18.一種電子裝置的制造方法，包括根據(jù)權(quán)利要求16和17的任一項(xiàng)在基片上產(chǎn)生被印刷區(qū)域的步驟。