[實用新型]傾斜入射光散射式硅片表面缺陷檢測儀無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200520045038.7 | 申請日： | 2005-09-15 |
| 公開（公告）號： | CN2824024Y | 公開（公告）日： | 2006-10-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 程兆谷;高海軍;覃兆宇;張志平;黃惠杰;錢紅斌 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | G01N21/956 | 分類號： | G01N21/956;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人： | 張澤純 |
| 地址： | 201800上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 傾斜 入射 散射 硅片 表面 缺陷 檢測 | ||
【說明書】：
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G01 測量；測試
G01N 借助于測定材料的化學或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學反應(yīng)的系統(tǒng)，測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
G01N 借助于測定材料的化學或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學反應(yīng)的系統(tǒng)，測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
