[發(fā)明專利]抗鐵磁材料膜和包括其的磁阻效應(yīng)器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200410071615.X | 申請(qǐng)日： | 1997-11-20 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1590580A | 公開（公告）日： | 2005-03-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 山野辺尚;藤岡直美;石上隆;勝井信雄;福家廣美;齊藤和浩;巖崎仁志;佐橋政司;渡辺高志 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 株式會(huì)社東芝 |
| 主分類號(hào)： | C23C14/14 | 分類號(hào)： | C23C14/14;C23C14/34;H01L43/08;H01L43/10 |
| 代理公司： | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人： | 張曉威 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 抗鐵磁 材料 包括 磁阻 效應(yīng) 器件 | ||
【權(quán)利要求書】：
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
