[發明專利]用于分析暴露測試中涂層的方法和系統無效
| 申請號： | 200410057522.1 | 申請日： | 2004-08-17 |
| 公開（公告）號： | CN1584547A | 公開（公告）日： | 2005-02-23 |
| 發明（設計）人： | 邁克爾·W·林賽;愛德華·A·施密特;馬克·R·舒爾 | 申請（專利權）人： | 羅姆和哈斯公司 |
| 主分類號： | G01N17/00 | 分類號： | G01N17/00;G01N21/84;G01N21/25;G06F19/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 美國賓*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 分析 暴露 測試 涂層 方法 系統 | ||
【權利要求書】：
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