[發明專利]光刻投影裝置中的聚焦疵點監測有效
| 申請號： | 200410032659.1 | 申請日： | 2004-03-09 |
| 公開（公告）號： | CN1542551A | 公開（公告）日： | 2004-11-03 |
| 發明（設計）人： | T·范里希;T·J·M·卡斯坦米勒;W·H·G·A·科恩恩;A·范宗;M·布羅爾斯 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 投影 裝置 中的 聚焦 疵點 監測 | ||
【說明書】：
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