[發(fā)明專利]薄膜型共態(tài)扼流圈及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200410032611.0 | 申請日： | 2004-02-26 |
| 公開（公告）號： | CN1532856A | 公開（公告）日： | 2004-09-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 伊藤知一;工藤孝潔;大友誠 | 申請（專利權(quán)）人： | TDK株式會社 |
| 主分類號： | H01F17/00 | 分類號： | H01F17/00;H01F41/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 日本東京*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 薄膜 型共態(tài)扼流圈 及其 制造 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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