[發明專利]用于真空濺射處理機的陰極有效
| 申請號： | 03819910.6 | 申請日： | 2003-07-08 |
| 公開（公告）號： | CN1679137A | 公開（公告）日： | 2005-10-05 |
| 發明（設計）人： | M·奧拉涅;L·拉巴爾姆 | 申請（專利權）人： | 泰克瑪西納股份有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/34 | 分類號： | H01J37/34 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 黃必青 |
| 地址： | 法國昂德雷*** | 國省代碼： | 法國;FR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 真空 濺射 處理機 陰極 | ||
【說明書】：
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