[發明專利]通過過度拋光生產光波導中的垂直錐形體的方法有效
| 申請號： | 03816669.0 | 申請日： | 2003-04-17 |
| 公開（公告）號： | CN1668951A | 公開（公告）日： | 2005-09-14 |
| 發明（設計）人： | M·薩里布 | 申請（專利權）人： | 英特爾公司 |
| 主分類號： | G02B6/30 | 分類號： | G02B6/30 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 | 代理人： | 李家麟 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 通過 過度 拋光 生產 波導 中的 垂直 錐形 方法 | ||
【說明書】：
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