[發(fā)明專利]光學(xué)記錄介質(zhì)及二吡咯甲烯基－金屬螯合物無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 03807342.0 | 申請日： | 2003-03-27 |
| 公開（公告）號： | CN1642752A | 公開（公告）日： | 2005-07-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 西本泰三;井上忍;三澤傳美;奈良亮介;稻富裕司;村山俊介;小池正士;齊藤靖典;中川真一 | 申請（專利權(quán)）人： | 三井化學(xué)株式會社;山本化成株式會社 |
| 主分類號： | B41M5/26 | 分類號： | B41M5/26;C09B23/04;C07D209/70;C07D491/048;C07D495/04;G11B7/24 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 鐘晶 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 記錄 介質(zhì) 吡咯 甲烯基 金屬 螯合物 | ||
【權(quán)利要求書】：
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