[發明專利]光刻標記結構、光刻投射裝置和進行基片對準的方法有效
| 申請號： | 03164840.1 | 申請日： | 2003-09-19 |
| 公開（公告）號： | CN1534387A | 公開（公告）日： | 2004-10-06 |
| 發明（設計）人： | R·J·F·范哈倫;P·C·欣南;S·拉巴哈多爾辛;E·C·莫斯;H·梅亙斯;M·范德沙爾;J·休布雷格塞 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 標記 結構 投射 裝置 進行 對準 方法 | ||
【權利要求書】：
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