[發(fā)明專利]濺射靶、其制造方法、以及形成了相變化型光盤保護膜的光記錄媒體有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 02802970.4 | 申請日： | 2002-08-29 |
| 公開（公告）號： | CN1473329A | 公開（公告）日： | 2004-02-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 矢作政隆;高見英生 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會社日礦材料 |
| 主分類號： | G11B7/26 | 分類號： | G11B7/26;G11B7/24;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 王維玉;丁業(yè)平 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 濺射 制造 方法 以及 形成 相變 光盤 保護膜 記錄 媒體 | ||
【說明書】：
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