[發明專利]納米級分子篩及其合成方法

無效

• 申請號: 02132507.3
• 申請日: 2002-06-28
• 公開（公告）號: CN1397494A
• 公開（公告）日: 2003-02-19
• 發明（設計）人: 吳通好;闞秋斌;許寧;王東陽;吳鵬
• 申請（專利權）人: 吉林大學
• 主分類號: C01B39/04
• 分類號: C01B39/04
• 代理公司: 長春吉大專利代理有限責任公司
• 代理人: 王恩遠,張景林

1、一種納米級分子篩，是結構為MWW拓撲骨架結構的MCM-49分子篩，其特征是，晶體為直徑50～900nm、厚度為20～200nm的片狀六方單晶。

2、一種權利要求1的納米級分子篩的合成方法，所用原料包括硅源、鋁源、堿、模板劑和水，采用水熱合成方法，其特征是：首先將硅源、鋁源、堿、模板劑和水按摩爾比計：SiO₂/Al₂O₃＝10～35；OH^-/SiO₂＝0.05～1.0；R/SiO₂＝0.07～3.0；H₂O/SiO₂＝10～50的比例混合，將該混合物在140～200℃條件下，晶化時間為12～240小時后取出，經水洗、干燥得MCM-49分子篩。

3、如權利要求2所述的納米級分子篩的合成方法，其特征是：所述的原料中的硅源選自無定型二氧化硅、硅溶膠、硅膠、硅藻土或水玻璃中的至少一種，鋁源選自鋁酸鈉、硫酸鋁、硝酸鋁、氯化鋁、氫氧化鋁、氧化鋁、高嶺土或蒙托土中的至少一種，堿選自氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化銣或氫氧化銫中的至少一種，R為模板劑，可以是六亞甲基亞胺。

4、按照權利要求3所述的納米級分子篩的合成方法，其特征是：硅源、鋁源、堿、模板劑和水的摩爾比是：SiO₂/Al₂O₃＝15～35，OH^-/SiO₂＝0.05～0.30，R/SiO₂＝0.07～2.0，H₂O/SiO₂＝10～30；晶化溫度為160～190℃，晶化時間為18～120小時。

5、按照權利要求4所述的納米級分子篩的合成方法，其特征是：硅源、鋁源、堿、模板劑和水的摩爾比是：OH^-/SiO₂＝0.05～0.17、H₂O/SiO₂＝10～30、晶化溫度為165～190℃，晶化時間為24～90小時。