[發(fā)明專利]濾色片基板和電光裝置、及其制造方法和電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 02123929.0 | 申請日: | 2002-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN1397820A | 公開(公告)日: | 2003-02-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 瀧澤圭二;中野智之 | 申請(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/133 | 分類號: | G02F1/133;G02F1/136;G02F1/1335;G02B5/20 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 | 代理人: | 段承恩,陳海紅 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 濾色片基板 電光 裝置 及其 制造 方法 電子設(shè)備 | ||
1.一種濾色片基板,其特征在于,在該濾色片基板中具備:
基板;
配置在上述基板上,而且具有實質(zhì)上光可以透過的透過部分的反射層,和至少與上述反射層平面地重疊地配置,并且具有厚層厚部分的著色層,
上述反射層在上述透過部分周邊具有反射部分,
上述厚層厚部分被配置為平面地重疊到上述透過部分上,
上述厚層厚部分的厚度,比上述著色層的對應(yīng)上述反射部分的位置的部分的厚度和上述反射部分的厚度之和還厚。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾色片基板,其中上述透過部分是設(shè)置在上述反射層的開口部分,在除上述開口部分之外的上述反射層與上述著色層之間,具備實質(zhì)上光可以透過的透光層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的濾色片基板,其特征在于,上述透光層具有使光漫反射的漫反射功能。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾色片基板,其中上述透過部分是設(shè)置在上述反射層上的開口部分,在除上述開口部分之外的上述反射層和上述基板之間具備基底層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濾色片基板,其特征在于,上述基底層的表面具有凹凸,上述反射層具有使光進行漫反射的微細的凹凸。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾色片基板,其特征在于,上述基板具有凹部,上述厚層厚部分被配置為平面地重疊到上述凹部內(nèi)。
7.一種濾色片基板,其特征在于,在該濾色片基板中具備:
基板;
配置在上述基板上并且具有厚層厚部分的著色層,
上述厚層厚部分的厚度比其它的部分厚。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的濾色片基板,其中在上述基板和除上述厚層厚部分之外的上述著色層之間具備實質(zhì)上可以透過光的透光層。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的濾色片基板,其特征在于,上述基板具有凹部,上述厚層厚部分被配置為平面地重疊到上述凹部上。
10.一種電光裝置,其特征在于,在該電光裝置中具備:
含有電光物質(zhì)的電光層;
支持上述電光層的基板;
配置在上述基板上,且具有實質(zhì)上可以透過光的透過部分的反射層,和被配置為至少平面地重疊到上述反射層上,且具有厚層厚部分的著色層;
上述反射層在上述透過部分周邊,具有反射部分,
上述厚層厚部分被配置為平面地重疊到上述透過部分上,
上述厚層厚部分的厚度比上述著色層的對應(yīng)上述反射部分位置的部分的厚度和上述反射部分的厚度之和還厚。
11.一種電光裝置,其特征在于,在該電光裝置中具備:
含有電光物質(zhì)的電光層;
支持上述電光層的第1基板;
配置在上述第1基板上,且具有實質(zhì)上光可以透過的透過部分的反射層;
與上述第1基板相對配置的第2基板;
和被配置到上述第2基板上,且具有比其它的部分厚的厚層厚部分的著色層;
上述厚層厚部分被配置為平面地重疊到上述透過部分上。
12.一種電光裝置,其特征在于,在該電光裝置中具備:
含有電光物質(zhì)的電光層;
支持上述電光層的第1基板;
配置在上述第1基板上,且具有實質(zhì)上光可以透過的透過部分的反射層;
被配置為至少平面地重疊到上述反射層上的第1著色層;
與上述第1基板相對配置的第2基板;
和配置在上述第2基板上的第2著色層,
上述反射層在上述透過部分周邊,具有反射部分,
上述第1著色層被配置為至少平面地重疊到上述透過部分和上述反射部分上,
上述第2著色層被配置為至少平面地重疊到上述透過部分上。
13.一種濾色片基板的制造方法,在該濾色片的制造方法中,其特征在于,具備:
在基板上邊局部地形成絕緣層的工序,
在上述絕緣層的形成區(qū)域上邊和上述絕緣層的非形成區(qū)域上邊形成著色層的工序。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





