[發明專利]液晶顯示裝置以及電子設備有效
| 申請號: | 02122254.1 | 申請日: | 2002-06-04 |
| 公開(公告)號: | CN1389754A | 公開(公告)日: | 2003-01-08 |
| 發明(設計)人: | 飯島千代明 | 申請(專利權)人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 馬鐵良,葉愷東 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶 顯示裝置 以及 電子設備 | ||
技術領域
本發明涉及液晶顯示裝置以及電子設備、特別是涉及在透過模式時也可有充分的亮度顯示的半透過反射型的液晶顯示裝置結構。
現有技術
反射型液晶顯示裝置因沒有后光等光源所以耗電小、歷來多被用于各種攜帶式電子設備和裝置付屬的顯示部件等處。可是、由于其利用自然光和照明光等外光顯示、所以在暗處顯示時存在觀看困難的問題。于是、一種在明亮處可與通常的反射型液晶顯示裝置一樣利用外光、而在暗處通過內部的光源可觀看顯示的液晶顯示裝置被提了出來。也就是、該液晶顯示裝置采用了反射型和透過型功能兼備的顯示方式、應周圍的亮度轉換為反射模式、透過模式中的某一個的顯示方式、由此可在減低耗電同時又能在周圍暗的情況時明亮地顯示出來。以下、在本明細書中將該種液晶顯示裝置稱為半透過反射型液晶顯示裝置。
作為一種半透過反射型液晶顯示裝置的形態、由鋁等金屬膜形成光透過用的縫隙的反射膜并將其設在下基片內部的液晶顯示裝置、被提了出來。該種液晶顯示裝置中,通過將金屬膜設在下基片內部一側之方式、防止因下基片的厚度造成的視差影響、特別是采用彩色濾光器的構造防止混色。
圖12是一個無源矩陣方式的半透過反射型液晶顯示裝置的示例部分斷面圖。該液晶顯示裝置100中,一對透明的上基片102、下基片101之間夾住了液晶103、下基片101上疊層了反射膜104、絕綠膜106、繼而形成了由銦錫氧化物(Indium?Tin?Oxide,以下、略記為ITO。)等的透明導電膜結構構成的條紋狀搜索電極108、為覆蓋搜索電極108形成了配向膜107。另一方面、上基片102上、形成了彩色濾光器109、然后疊層了平坦化膜111、該平坦化膜111上由ITO等的透明導電膜結構構成的信號電極112與搜索電極108沿正交方向形成條紋狀、為覆蓋該信號電極112形成配向膜113。反射膜104由鋁等的金屬膜形成、該反射膜104中依每個像素形成光透過用的縫隙110。通過該縫隙110使來自下基片101一側的入射光透過來、反射膜104完成半透過反射膜的功能。另外、上基片102的外側沿從上基片102側的順序配置了前散射板118、位相差板119、上偏振光板114、下基片101的外側設有1/4波長板115和下偏振光板116。另外、后光117配置在下基片101的下側。
在明亮處以反射模式使用上述結構的液晶顯示裝置100時、從上基片102的上方入射的外光透過液晶103被反射到反射膜104的表面后、再次透過液晶103、射出到上基片102側。在暗處使用透過模式時從設置在下基片101的下方的后光117射出的光在縫隙110的部分透過反射膜104、然后、透過液晶103射出到上基片102側。這些光以各種模式加到顯示。
按上述液晶顯示裝置100、則無論外光的有無均可觀看顯示、與反射模式時相比存在著透過模式時的亮度不足問題。這主要是由于透過模式時的加到顯示得到的光量、只是通過設在反射膜104的縫隙110的光量、加之設在下基片101的外面一側的1/4波長板115以及偏振光板116而導致的光損失造成的。
圖12所示的液晶顯示裝置100中、進行透過模式顯示的情況時、從后光117射出的光、從下基片101的外側入射到液晶顯示單元、該光之中通過縫隙110的光即成為加到顯示的光。在此這里、為了在液晶顯示裝置100中作暗顯示、要求從縫隙110到上基片102的光為圓偏振光。所以、從后光117射出的通過縫隙110光也須是圓偏振光、為將透過下偏振光板116轉換直線偏振光的光轉換為圓偏振光、需要1/4波長板115。
接下來、從后光117中射出的光當中、我們看不通過縫隙110的光、從后光117射出的、通過下偏振光板116轉換為與紙面平行的直線偏振光后、通過1/4波長板115被轉換為圓偏振光、到達反射膜104。該光不入射縫隙110而在反射膜104的下基片101側的面被反射、則形成與入射到反射膜104的圓偏振光相逆轉的圓偏振光、該光再次通過1/4波長板115則轉換為與紙面垂直的直線偏振光。所以、該光被與紙面平行的有透過軸的下偏振光板116吸收。也就是、從后光117射出的光當中、不通過縫隙110在反射膜104的背面側被反射的光、幾乎完全被下基片101的下偏振光板116吸收。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于精工愛普生株式會社,未經精工愛普生株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/02122254.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:膠片處理裝置
- 下一篇:磁場中熱處理爐及用其進行熱處理的方法





