[發(fā)明專(zhuān)利]帶有被減少的排氣余隙的壓縮機(jī)活塞有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 02106027.4 | 申請(qǐng)日: | 2002-04-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1382910A | 公開(kāi)(公告)日: | 2002-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | P·F·凱多;S·M·麥拜恩;R·J·杜佩爾特 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 卡利爾公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | F04B53/14 | 分類(lèi)號(hào): | F04B53/14 |
| 代理公司: | 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 蔡民軍,章社杲 |
| 地址: | 美國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 帶有 減少 排氣 壓縮機(jī) 活塞 | ||
1.一種壓縮機(jī),該壓縮機(jī)包括:
氣缸,該氣缸沿一條軸線(xiàn)延伸;
活塞,該活塞沿所述軸線(xiàn)在底部分和頂部分之間往復(fù)運(yùn)動(dòng),并且具有限定圓形活塞輪廓的上表面;
閥板,該閥板在所述頂部封閉所述氣缸,所述閥板在所述活塞輪廓的半圓內(nèi)具有數(shù)個(gè)沿圓周間隔開(kāi)的對(duì)齊的排氣口并且在與之相對(duì)的半圓內(nèi)具有數(shù)個(gè)沿圓周間隔開(kāi)的吸氣口,還具有封閉所述排氣口的簧片閥,所述簧片閥被安裝在所述閥板的外表面上;和
所述活塞具有頂表面,該頂表面包括數(shù)個(gè)沿圓周間隔開(kāi)的突出部分,并且每一個(gè)所述突出部分都與每一個(gè)所述排氣口相關(guān)聯(lián),所述數(shù)個(gè)突出部分關(guān)于所述活塞非中心設(shè)置。
2.如權(quán)利要求1所述的壓縮機(jī),其中吸氣閥位于所述閥板的內(nèi)表面并覆蓋所述吸氣口。
3.如權(quán)利要求2所述的壓縮機(jī),其中所述活塞具有吸氣閥切口部分,該吸氣閥切口部分延伸入所述活塞并與所述吸氣閥對(duì)齊,從而所述吸氣閥可在所述切口部分中運(yùn)動(dòng)。
4.如權(quán)利要求1所述的壓縮機(jī),其中所述突出部分具有截頭圓錐形的外周以使所述突出部分和所述排氣口之間的流動(dòng)阻力最小化。
5.如權(quán)利要求3所述的壓縮機(jī),其中所述切口部分具有兩個(gè)大體彎曲的側(cè)部分,并且該切口部分延伸穿過(guò)所述活塞的整個(gè)直徑,所述活塞的原有表面被加工在每一個(gè)所述側(cè)部分上,所述突出部分的一個(gè)突出部分設(shè)在所述原有表面區(qū)域中的一個(gè)原有表面區(qū)域之內(nèi)。
6.一種壓縮機(jī),該壓縮機(jī)包括:
氣缸,該氣缸沿一條軸線(xiàn)延伸;
活塞,該活塞沿所述軸線(xiàn)在底部分和頂部分之間往復(fù)運(yùn)動(dòng),并且具有限定圓形活塞輪廓的上表面;
閥板,該閥板在所述頂部封閉所述氣缸,所述閥板在所述活塞輪廓的半圓內(nèi)具有數(shù)個(gè)沿圓周間隔開(kāi)的對(duì)齊的排氣口并且在與之相對(duì)的半圓內(nèi)具有數(shù)個(gè)沿圓周間隔開(kāi)的吸氣口,還具有封閉所述排氣口和所述吸氣口的簧片閥,其中所述排氣簧片閥被安裝在所述閥板的外表面上,所述吸氣簧片閥被安裝在所述閥板的內(nèi)表面上;和
所述活塞具有頂表面,該頂表面包括數(shù)個(gè)沿圓周間隔開(kāi)的突出部分,并且每一個(gè)所述突出部分都與每一個(gè)所述排氣口相關(guān)聯(lián),所述數(shù)個(gè)突出部分被加工在所述活塞輪廓的半圓之內(nèi)。
7.如權(quán)利要求6所述的壓縮機(jī),其中所述活塞具有吸氣閥切口部分,該吸氣閥切口部分延伸入所述活塞并與所述吸氣閥對(duì)齊,從而所述吸氣閥可在所述切口部分中運(yùn)動(dòng)。
8.如權(quán)利要求6所述的壓縮機(jī),其中所述突出部分具有截頭圓錐形的外周以使所述突出部分和所述排氣口之間的流動(dòng)阻力最小化。
9.如權(quán)利要求8所述的壓縮機(jī),其中所述切口部分具有兩個(gè)大體彎曲的側(cè)部分,并且該切口部分延伸穿過(guò)所述活塞的整個(gè)直徑,所述活塞的原有表面設(shè)在每一個(gè)所述側(cè)部分上,所述突出部分的一個(gè)突出部分設(shè)在所述原有表面區(qū)域中的一個(gè)原有表面區(qū)域之內(nèi)。
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