[發(fā)明專利]隔膜和用于制造隔膜的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810294038.2 | 申請日： | 2018-03-30 |
| 公開（公告）號： | CN108692060B | 公開（公告）日： | 2020-07-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 克里斯多夫·勒邦特;羅爾夫·邁耶;羅曼·羅科 | 申請（專利權(quán)）人： | 蓋米工業(yè)設(shè)備有限兩合公司 |
| 主分類號： | F16K7/12 | 分類號： | F16K7/12 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 王瑞朋;楊生平 |
| 地址： | 德國英*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 隔膜 用于 制造 方法 | ||
1.一種用于隔膜閥的隔膜(2)，其中，所述隔膜(2)由聚四氟乙烯PTFE制成，在所述隔膜(2)與保持層(14)之間設(shè)置有電子數(shù)據(jù)載體(16)，其特征在于：所述隔膜(2)包括第一凹進(jìn)部(18)，所述電子數(shù)據(jù)載體(16)至少分部段地容納在所述第一凹進(jìn)部中并且所述第一凹進(jìn)部的開口(26)通過所述保持層(14)封閉，并且所述第一凹進(jìn)部(18)設(shè)置在所述隔膜(2)的第二凹進(jìn)部(24)之內(nèi)，所述第二凹進(jìn)部(24)圍繞所述第一凹進(jìn)部(18)的開口(26)提供連接面(30)，并且所述保持層(14)與所述隔膜(2)的連接面(30)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隔膜(2)，其中，所述第一凹進(jìn)部(18)的開口(26)處于背離所述隔膜(2)的介質(zhì)側(cè)(8)的那側(cè)(20)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的隔膜(2)，其中，所述第一凹進(jìn)部(18)設(shè)置在接片(10)中，所述接片突出于所述隔膜(2)的窄側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的隔膜(2)，其中，所述保持層(14)材料接合地與所述隔膜(2)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的隔膜(2)，其中，所述保持層(14)包括全氟烷氧基聚合物PFA。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的隔膜(2)，其中，RFID芯片作為電子數(shù)據(jù)載體(16)存在。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的隔膜(2)，其中，所述RFID芯片盤形地構(gòu)成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的隔膜(2)，其中，所述RFID芯片的盤形面沿著相對于隔膜平面平行的平面或沿著隔膜平面取向。
9.一種用于制造用于隔膜閥的隔膜(2)的方法，其中，所述隔膜(2)由聚四氟乙烯PTFE制成(102)，其中，在所述隔膜(2)與保持層(14)之間設(shè)置(104)電子數(shù)據(jù)載體(16)，其特征在于如下的步驟：
-制造(106)帶有第一凹進(jìn)部(18)的隔膜(2)，使得所述隔膜(2)包括第一凹進(jìn)部(18)并且使得所述第一凹進(jìn)部(18)設(shè)置在所述隔膜(2)的第二凹進(jìn)部(24)之內(nèi)，其中，所述第二凹進(jìn)部(24)圍繞所述第一凹進(jìn)部(18)的開口(26)提供連接面(30)；
-將所述電子數(shù)據(jù)載體(16)設(shè)置(108)在所述第一凹進(jìn)部(18)中；以及
-將所述第一凹進(jìn)部(18)連帶設(shè)置在其中的電子數(shù)據(jù)載體(16)通過所述保持層(14)封閉(114)，其中，所述保持層(14)與所述隔膜(2)的連接面(30)連接。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，將所述第一凹進(jìn)部(18)封閉包括：
-將所述保持層(14)設(shè)置在壓緊工具(36)與所述隔膜(2)的連接面(30)之間，
-以一定的壓緊力和在一定的壓緊溫度下將所述壓緊工具(36)壓緊，其中所述壓緊工具(36)具有壓緊面(38)，所述壓緊面對應(yīng)于所述連接面(30)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，為了壓緊所述壓緊工具(36)，在所述保持層(14)與所述壓緊工具(36)之間臨時設(shè)置可去除的保護(hù)膜(34)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述保護(hù)膜(34)是由聚酰亞胺膜構(gòu)成的保護(hù)膜。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述保護(hù)膜(34)是由KAPTON構(gòu)成的保護(hù)膜。
14.一種用于制造隔膜(2)的制造站，其特征在于，所述制造站構(gòu)建為用于執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求9至13中任一項(xiàng)所述的方法。
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