[實用新型]顯示面板的表面處理裝置無效
| 申請號: | 01258974.8 | 申請日: | 2001-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN2496100Y | 公開(公告)日: | 2002-06-19 |
| 發明(設計)人: | 盧添榮 | 申請(專利權)人: | 錸寶科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G09G3/30 | 分類號: | G09G3/30 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 湯保平 |
| 地址: | 臺灣省*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 表面 處理 裝置 | ||
技術領域
本實用新型是提供一種表面處理裝置,尤指一種制作一顯示面板的光阻隔離墻的表面處理裝裝置。
背景技術
有機電激發光顯示器(organic?electroluminescent?display)元件因為重量輕,高對比、應答速度高、耗電低及亮度高等優點,近年來成為備受注目的新世代平面顯示器。然而,有機電激發光元件由于其技術較新、發展相較于其他顯示器晚,技術尚未完全成熟,故目前在商品化過程及大量生產過程,還有許多障礙有待克服。
已知的制作方法,會先在陽極電極表面上制作復數條互相平行但與陽極電極垂直的光阻阻隔墻,用來作為陰影光罩(shadow?nask),然后于光阻阻隔墻的間隔區域內的陽極電極與基板表面上,蒸鍍有機發光材料層以及陰極電極。但是當光阻阻隔墻的剖面形狀近似矩形時,在蒸鍍陰極電極的過程中,常會因側向擴散機率提高而導致陰極電極與陽極電極接觸,進而產生短路。尤其當光阻阻隔墻的厚度低于4μm以下時,更容易發生上述短路的現象。美國專利US592970揭露一種制作方法,可以將光阻阻隔墻制作成一倒梯形橫切面,使倒梯形的上底較其下底長出許多,可以作為陰影光罩。但是仍有以下所述的若干先天缺點難以克服:首先,倒梯形橫切面的平行隔離層的梯形在形成時,其有高度或厚度的限制(大于4μm),若倒梯形的高度過低,使其陰形突出部分變少,會降低鍍膜時的隔離效果,甚至會造成陰極線路間的導通;而若欲確保鍍膜的隔離效果,則需要加高倒梯形橫切面的平行隔離層的高度或厚度至約4μm以上,但對于一般線寬約為15μm以上的顯示器而言,如此限制便無法大幅提高顯示器的解析度,隔離層也將因變厚而易于崩落。故以此方法制造的有機電激發光顯示器,其厚度無法再有效降低,不符合目前顯示器朝向輕、薄、短、小的需求,而因此其解析度也受到限制無法大幅地提升。另外,由于倒梯形橫切面的平行隔離層經光罩圖樣(pattern)曝光、顯影后,通常需要進行有機層及電極層的蒸鍍,倒梯形橫切面斜面于蒸鍍時的側向擴散(1ateral?diffusion)機率很大,容易導致陰極鍍層短路,尤其在厚度低于4μm以下時,鍍層短路更易發生,因此導致制造良率的降低。
為了解決上述的問題,美國專利US6013538揭露一種多層底切(undercut)的方式,是利用多次鍍膜、顯影或蝕刻的方式來制作具有T形狀頂部的光阻阻隔墻。但是多層底切的方式會產生許多制程瓶頸,例如光阻阻隔墻的厚度控制、線寬限制、圖案準確性等等,而且整個制程步驟繁瑣,所需耗費的材料與時間成本過高,因此并不適用于大量生產作業,也無法確保光阻阻隔墻的制作品質。有鑒于此,目前亟需一種表面處理裝置,可以在兼顧制作成本與制作品質的考量下,制作出具有T形狀頂部的光阻阻隔墻,以應用于有機電激發光顯示器的大量制造,而且可以降低材料浪費的成本,避免有機電光元件顯示器平行隔離層崩落,提高解析度,降低有機電激發光顯示器及其平行隔離層間導通的厚度,避免有機電激發光顯示器短路以提高制造良率。
創作人爰因于此,本于積極創作的精神,亟思一種可以解決上述問題的“有機電激發光顯示面板的光阻隔離墻的表面處理裝置”,幾經研究實驗終至完成此項創作。
發明內容
本實用新型的主要目的是在提供一種制作一顯示面板的表面處理裝置,以便能制作出具有下形狀頂部的光阻阻隔墻,以有效避免有機電激發光顯示面板的短路現象。
本實用新型的次要目的是在提供一種顯示面板的表面處理裝置,可以提高光阻隔離墻的制作良率。
本實用新型的又一目的是在提供一種顯示面板的表面處理裝置,可以降低光阻隔離墻的制作成本。
本實用新型的另一目的是在提供一種顯示面板的表面處理裝置,可以大幅提升有機電激發光顯示面板的解析度。
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