[實用新型]一種應用遠紅外線陶瓷加熱技術的晶片沾銀(銅)干燥系統無效
| 申請號： | 01224621.2 | 申請日： | 2001-05-24 |
| 公開（公告）號： | CN2485610Y | 公開（公告）日： | 2002-04-10 |
| 發明（設計）人： | 林宜弘 | 申請（專利權）人： | 實密科技股份有限公司;友厚新科技有限公司 |
| 主分類號： | F26B3/30 | 分類號： | F26B3/30 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 | 代理人： | 蔣旭榮 |
| 地址： | 臺灣省*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 應用 紅外線 陶瓷 加熱 技術 晶片 干燥 系統 | ||
1、一種應用遠紅外線陶瓷加熱技術的晶片沾銀(銅)干燥系統，包括：一輸送帶，一載料片和一加熱器，其特征在于：所述輸送帶為自動運輸的裝置；所述載料片接合在上述輸送帶上，該載料片中有復數個圓洞，該圓洞中有沾銀(銅)晶片；所述加熱器處于上述沾銀(銅)晶片的上方。
2、根據權利要求1所述的一種應用遠紅外線陶瓷加熱技術的晶片沾銀(銅)干燥系統，其特征在于：所述輸送帶為一輸送鋼帶。
3、根據權利要求1所述的一種應用遠紅外線陶瓷加熱技術的晶片沾銀(銅)干燥系統，其特征在于：所述加熱器為遠紅外線陶瓷加熱器。
4、根據權利要求3所述的一種應用遠紅外線陶瓷加熱技術的晶片沾銀(銅)干燥系統，其特征在于：所述遠紅外線陶瓷加熱器的發射率在0.92-0.94之間。
5、根據權利要求1所述的一種應用遠紅外線陶瓷加熱技術的晶片沾銀(銅)干燥系統，其特征在于：所述加熱器為遠紅外線陶瓷管狀加熱器。
6、根據權利要求5所述的一種應用遠紅外線陶瓷加熱技術的晶片沾銀(銅)干燥系統，其特征在于：所述遠紅外線陶瓷管狀加熱器的發射率在0.92-0.94之間。
7、根據權利要求1所述的一種應用遠紅外線陶瓷加熱技術的晶片沾銀(銅)干燥系統，其特征在于：所述加熱器為遠紅外線陶瓷平面狀加熱器。
8、根據權利要求7所述的一種應用遠紅外線陶瓷加熱技術的晶片沾銀(銅)干燥系統，其特征在于：所述遠紅外線陶瓷平面狀加熱器的發射率在0.92-0.94之間。
9、根據權利要求1所述的一種應用遠紅外線陶瓷加熱技術的晶片沾銀(銅)干燥系統，其特征在于：該干燥系統還包括一用來防止所述加熱器放出的熱量傳到該干燥系統外的爐壁，該爐壁為一絕熱裝置。
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