[發明專利]一種納米二氧化硅的制備方法

有效

• 申請號: 201310360638.1
• 申請日: 2013-08-16
• 公開（公告）號: CN103588210A
• 公開（公告）日: 2014-02-19
• 發明（設計）人: 程敬華;曹禮洪;李建霖
• 申請（專利權）人: 東莞市長安東陽光鋁業研發有限公司
• 主分類號: C01B33/18
• 分類號: C01B33/18;B82Y30/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種納米二氧化硅的制備方法，其特征在于：將溶液A（或溶液B）加入撞擊流反應器中，用溶液B(或溶液A）調節pH值至4-10后抽濾，濾餅用洗滌液C洗滌、干燥、鍛燒得到納米二氧化硅；其中，A為含硅化合物、表面活性劑、醇類和水的溶液，B為含酸化劑、醇類和水的溶液，C為含醇類或丙酮或其組合、表面活性劑和水的溶液。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶液A中，含硅化合物濃度為0.1-3.0mol/L，醇類的加入量與水的體積比為1:1-30，表面活性劑的加入量占溶液A的質量百分數為0.1%-15%。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述含硅化合物選自有機硅化合物或無機硅化合物或其組合。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述有機硅化合物選自正硅酸乙酯或正硅酸甲酯或其組合；無機硅化合物選自堿金屬硅酸鹽或水合堿金屬硅酸鹽或其組合。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述堿金屬硅酸鹽選自硅酸鋰、硅酸鈉、硅酸鉀、硅酸銣、硅酸銫或其組合。

6.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述水合堿金屬硅酸鹽選自水合硅酸鋰、水合硅酸鈉、水合硅酸鉀、水合硅酸銣、水合硅酸銫或其組合。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述的溶液B中，酸化劑濃度為0.4-3.5mol/L。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述的洗滌液C中，醇類或丙酮或其組合與水的體積比為1:2-30，表面活性劑的質量百分數為0.1%-15%。

9.根據權利要求1或2或8所述的方法，其特征在于，所述的表面活性劑選自陽離子表面活性劑、陰離子表面活性劑、非離子表面活性劑或其組合。

10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，所述的陽離子表面活性劑選自胺鹽類、季胺鹽類或雜環類陽離子表面活性劑或其組合；陰離子表面活性劑選自烷基羧酸鹽類、磺酸鹽類、烷基硫酸鹽類、磷酸酯鹽類陰離子表面活性劑或其組合；非離子型表面活性劑選自聚氧乙烯型、多元醇型、烷基醇酰胺型、非離子氟碳表面活性劑或其組合。

11.根據權利要求1或2或8所述的方法，其特征在于，所述的表面活性劑選自平均分子量為400-10000的聚乙二醇、十六烷基三甲基溴化銨、十八烷基三甲基溴化銨、六偏磷酸鈉、十二烷基磺酸鈉、十二烷基硫酸鈉或其組合。

12.根據權利要求1或2或8所述的方法，其特征在于，所述的醇類選自甲醇、乙醇、乙二醇、正丙醇、異丙醇、丙二醇、正丁醇、仲丁醇、異丁醇、叔丁醇、丁二醇或其組合。

13.根據權利要求1或7所述的方法，其特征在于，所述的酸化劑選自硫酸、鹽酸、硝酸、氯化銨、硝酸銨、碳酸氫銨、碳酸銨、硫酸銨或其組合。

14.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，撞擊流反應器的轉速為200-10000轉/分鐘，反應溫度為5-90℃。

15.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，撞擊流反應器的轉速為200-6000轉/分鐘，反應溫度為5-80℃。

16.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述煅燒的條件為：空氣氣氛或氧氣氣氛的馬弗爐，煅燒溫度為250-900℃，煅燒時間為0.5-7小時。