[發(fā)明專(zhuān)利]可調(diào)式偏振光反應(yīng)光阻與應(yīng)用該光阻微影工藝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 01130268.2 | 申請(qǐng)日： | 2001-12-29 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1430100A | 公開(kāi)（公告）日： | 2003-07-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 林順利;許偉華 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 旺宏電子股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G03F7/20 | 分類(lèi)號(hào)： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人： | 王學(xué)強(qiáng) |
| 地址： | 臺(tái)灣省新竹科*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 調(diào)式 偏振 光反應(yīng) 應(yīng)用 光阻微影 工藝 | ||
【說(shuō)明書(shū)】：
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類(lèi)似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類(lèi)似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
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- 應(yīng)用使用方法、應(yīng)用使用裝置及相應(yīng)的應(yīng)用終端
- 應(yīng)用管理設(shè)備、應(yīng)用管理系統(tǒng)、以及應(yīng)用管理方法
- 能力應(yīng)用系統(tǒng)及其能力應(yīng)用方法
- 應(yīng)用市場(chǎng)的應(yīng)用搜索方法、系統(tǒng)及應(yīng)用市場(chǎng)
- 使用應(yīng)用的方法和應(yīng)用平臺(tái)
- 應(yīng)用安裝方法和應(yīng)用安裝系統(tǒng)
- 使用遠(yuǎn)程應(yīng)用進(jìn)行應(yīng)用安裝
- 應(yīng)用檢測(cè)方法及應(yīng)用檢測(cè)裝置
- 應(yīng)用調(diào)用方法、應(yīng)用發(fā)布方法及應(yīng)用發(fā)布系統(tǒng)
