[發明專利]制作圖象顯示裝置的方法和設備無效
| 申請號: | 01116873.0 | 申請日: | 2001-02-16 |
| 公開(公告)號: | CN1312536A | 公開(公告)日: | 2001-09-12 |
| 發明(設計)人: | 宮崎俊彥;中田耕平;金子哲也 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G09G3/30 | 分類號: | G09G3/30;H01J9/26;H01J9/385 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 王以平 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制作 圖象 顯示裝置 方法 設備 | ||
本發明涉及一種電子發射器件排列成矩陣型式的圖象顯示裝置,特別是制作圖象顯示裝置的方法和設備,此圖象顯示裝置具有一顯示面板,在該顯示面板上,具有排列成矩陣型式的電子發射器件的后板(RP)和具有熒光物質的前板(FP)分別作為第一圖象形成部件和第二圖象形成部件而相對排列。
按照常規,電子發射器件大體上分為兩種類型,即熱電子發射器件和冷陰極電子發射器件。冷陰極電子發射器件包括場致發射型(下文稱作FE型)、金屬/絕緣層/金屬型(下文稱作MIM型)、表面傳導型電子發射器件以及等等諸如此類的電子發射器件。
至于FE型電子發射器件實例,已經公開的有W.P.Dyke&W.W.Dolan在Advancein?Electron?Physics(電子物理的發展),8,89(1956)的“Field?Emission(場致發射)”中、C.A.Spindt在J.Appl.Phys.(應用物理期刊),47,5248(1976)的“Physical?Properties?of?thin-film?field?emission?cathodes?withmolybdenum?cones(具有鉬質錐形頭部的薄膜場致發射陰極管的物理特性)”等中披露的電子發射器件。
至于MIM型電子發射器件實例,已經公開的有C.A.Mead在J.Appl.Phys.(應用物理期刊),32,646(1961)的“Operation?of?Tunnel-Emission?Devices(溝道發射器件的操作)”等中披露的電子發射器件。
至于表面傳導型電子發射器件實例,已經公開的有M.I.Elinson在RadioEng.Electron?Phys.(無線電工程電子物理),10,1290(1965)等中披露的電子發射器件。
表面傳導型電子發射器件所利用的是這樣一種現象,即電流平行于膜表面流過形成于一襯底上的小面積薄膜時產生電子發射。關于表面傳導型電子發射器件,有上述Elinson等人所用的SnO2薄膜、有Au薄膜[G.Dittmer:“Thin?Solidfilm(薄固態膜)”,9,317(1972)]、有In2O3/SnO2薄膜[M.Hartwell和C.G.Fonstad:“IEEETrans.EDConf.,519(1975)]、有碳薄膜[ArakiHisashi等人:Shinku,26卷,第1期,第22頁(1983)]型等。
在用上述電子發射器件來制作圖象顯示裝置時,用于制作顯示面板的方法包括以下步驟:制備一個作為RP的電子源襯底,電子發射器件在該電子源襯底上排列成矩陣型式,并制備一個作為FP的、具有受電子束激發而發射光線的熒光物質的熒光物質襯底;通過設置一個隔板而將FP和RP相對設置,提供一個封套和一抗大氣壓結構,以使電子發射元件和熒光物質位于其內部;用一種低熔點材料如燒結玻璃、銦等作為密封材料來密封內部;當由真空排氣管將內部排成真空后,再將事先設置的真空排氣管密封上。
根據上述已有技術的制作方法,制成一塊顯示面板需花相當長的時間,而且不適于制作內部真空度需達1×10-6Pa或更高的顯示面板。
此已有技術的缺陷已由日本專利申請公開第11-135018號中所述的方法所解決。
在日本專利申請公開第11-135018號所述的方法中,由于在將FP和RP放置在一個真空室內之后只用一個密封兩個襯底的步驟,所以上述其他步驟如烘烤處理、吸氣處理、電子束凈化處理等制備顯示面板所必須的處理步驟需依次在這一個真空室內進行。此外,由于只有在真空狀態變為非真空狀態時,FP和RP才能在真空室之間移動,所以在將FP和RP輸送到每一真空室內時,都要對該真空室進行抽真空。由于存在這些原因,所以制作過程需花很長時間。因此,需要大大降低制作過程時間,同時要求在最后一個制作步驟期間、應在短時間內使顯示面板內的真空度達到1×10-6pa或更高。
本發明的一個目的在于:在制作圖象顯示裝置過程中,能夠易于降低抽真空時間且易于獲得高真空度,從而提高制作效率。
根據本發明的一個方面,一種制作圖象顯示裝置的方法,包括以下步驟:
a:在真空環境下制備第一襯底和第二襯底,第一襯底上設置有熒光激發器,第二襯底上的熒光物質受熒光激發器的激發而發射光線;
b:在真空環境下將第一和第二襯底之一或全部輸送到真空環境的吸氣處理室內,并對輸送到的一個襯底或輸送到的一個或兩個襯底進行吸氣處理;以及
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