[實用新型]一種化學氣相沉積爐充氣結構

有效

• 申請號: 201220730847.1
• 申請日: 2012-12-27
• 公開（公告）號: CN203007410U
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 魏玉田;狄建鵬;劉喆
• 申請（專利權）人: 天津市天驕電爐制造有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 天津市鼎和專利商標代理有限公司 12101
• 代理人: 李鳳

技術領域

本實用新型屬于化學氣相沉積爐技術領域，特別涉及一種化學氣相沉積爐充氣結構。

背景技術

化學氣相沉積(Chemical?vapor?deposition，簡稱CVD)是反應物質在氣態條件下發生化學反應，生成固態物質沉積在加熱的固態基體表面，進而制得固體材料的工藝技術。現代科學和技術需要使用大量功能各異的無機新材料，這些功能材料必須是高純的，或者是在高純材料中有意地摻入某種雜質形成的摻雜材料。但是，我們過去所熟悉的許多制備方法如高溫熔煉、水溶液中沉淀和結晶等往往難以滿足這些要求，也難以保證得到高純度的產品。因此，無機新材料的合成就成為現代材料科學中的主要課題?；瘜W氣相沉積是近幾十年發展起來的制備無機材料的新技術?；瘜W氣相淀積法已經廣泛用于提純物質、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態無機薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物等，而且它們的物理功能可以通過氣相摻雜的淀積過程精確控制。目前，化學氣相淀積已成為無機合成化學的一個新領域。

化學氣相沉積材料的品質在諸多因素中，形成氣相反應物在氣場中的均勻度是關鍵因素。

現有的化學氣相沉積爐充氣結構主要包括均布設置在沉積室頂部的單體式上沖氣管、單體式中部充氣管以及平口式排氣口，如圖3和圖4所示。圖中箭頭表示進氣及氣流走向，從氣流方向來看，該種結構的氣場均勻度較差，因此影響了相沉積材料的品質。

發明內容

本實用新型為解決公知技術中存在的技術問題而提供一種提高氣場均勻度、提高所制化學氣相沉積材料品質的化學氣相沉積爐充氣結構。

本實用新型為解決公知技術中存在的技術問題所采取的技術方案是：

一種化學氣相沉積爐充氣結構，包括安裝在爐殼上部穿過隔熱屏與沉積室連通的上充氣系統，安裝在爐殼側壁穿過隔熱屏與沉積室中部連通的中部補氣系統，以及安裝位于沉積室底部的下排氣口，其特征在于：所述上充氣系統包括數組充氣單元，數組充氣單元均布設置在沉積室的頂部，每組充氣單元均由充氣總管和充氣支管構成，其中所述充氣總管深入沉積室內，在沉積室內充氣總管分別連通有數個充氣支管，各個支管以充氣總管為中心向四周等分輻射，每個支管的端部設有出氣口，所述出氣口與充氣支管垂直。

本實用新型還可以采用如下技術措施：

所述中部補氣系統包括中部充氣管，所述中部充氣管深入沉積室內，其端部連通有排氣橫管，所述排氣橫管上設有數個排氣孔。

所述下排氣口設計成喇叭口狀。

本實用新型具有的優點和積極效果是：由于本實用新型采用上述結構，即在沉積室的頂部設置數組充氣單元，數組充氣單元均布設置在沉積室的頂部，每組充氣單元均由充氣總管和充氣支管構成，其中所述充氣總管深入沉積室內，在沉積室內充氣總管分別連通有數個充氣支管，各個支管以充氣總管為中心向四周等分輻射，每個支管的端部設有與支管垂直的出氣口，從而使得進氣形成一旋轉向下氣場，以提高進氣的均勻度。另外本實用新型還具有結構簡單、設計合理等優點。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖；

圖2是圖1中A-A剖視圖；

圖3是現有氣相沉積爐結構示意圖；

圖4是圖3中B-B剖視圖。

圖中：1、爐殼；2、沉積室；3、上充氣系統；30、充氣單元；301、充氣總管；302、充氣支管；303、出氣口；4、中部補氣系統；401、中部充氣管；402、排氣橫管；403、排氣孔；5、下排氣口；6、隔熱屏。

具體實施方式

為能進一步了解本實用新型的發明內容、特點及功效，茲例舉以下實施例，并配合附圖詳細說明如下：

請參閱圖1和圖2，一種化學氣相沉積爐充氣結構，包括安裝在爐殼1上部穿過隔熱屏6與沉積室2連通的上充氣系統3，安裝在爐殼側壁穿過隔熱屏與沉積室中部連通的中部補氣系統4，以及安裝位于沉積室底部的下排氣口5，所述上充氣系統3包括數組充氣單元30，數組充氣單元均布設置在沉積室2的頂部，一般情況下充氣單元的個數根據沉積爐的體積大小進行設定，本實施例中采用四組，每組充氣單元3均由充氣總管301和充氣支管302構成，其中所述充氣總管301深入沉積室2內，在沉積室2內充氣總管分別連通有數個充氣支管302，各個支管以充氣總管為中心向四周等分輻射，充氣支管個數也要根據沉積爐的體積大小進行布置，本實施例采用四個支管，每個支管的端部設有出氣口303，所述出氣口303與充氣支管垂直，從而形成一旋轉向下氣場，以提高進氣的均勻度。