[發(fā)明專利]磁記錄介質(zhì)用潤滑劑及其用途有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 00805484.3 | 申請日: | 2000-03-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN1349644A | 公開(公告)日: | 2002-05-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 塞爾達(dá)·京塞爾;克利福德·費(fèi)尼爾;邱一清 | 申請(專利權(quán))人: | 彭佐爾·奎克州立公司 |
| 主分類號(hào): | G11B5/72 | 分類號(hào): | G11B5/72;C07C13/28;C07C43/13;C07C43/178;C07C69/84;C07C211/25;C10M105/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 黃健,劉新宇 |
| 地址: | 美國得克薩*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 記錄 介質(zhì) 潤滑劑 及其 用途 | ||
1.一種磁記錄介質(zhì),包含:
一非磁性基片;
一形成于該基片上的磁性層;
一該磁性層上的潤滑劑層,該潤滑劑層包括選自烴基取代的環(huán)戊烯類、烴基取代的環(huán)戊烷類、烴基取代的環(huán)戊二烯類及其混合物或衍生物的化合物。
2.如權(quán)利要求1所述的磁記錄介質(zhì),進(jìn)一步包含:
于磁性層和潤滑劑層之間形成保護(hù)層。
3.如權(quán)利要求1或2所述的磁記錄介質(zhì),其中潤滑劑層包括一種烴基取代的環(huán)戊烷、一種烴基取代的環(huán)戊烯或一種烴基取代的環(huán)戊二烯,分別以下式表示:
其中R1及R2分別為烴基,m及n分別為零或正整數(shù)。
4.如權(quán)利要求1或2所述的磁記錄介質(zhì),其中潤滑劑層包括一種烴基取代的環(huán)戊烷、一種烴基取代的環(huán)戊烯或一種烴基取代的環(huán)戊二烯,分別以下式表示:
其中R′1及R′2分別為包括一個(gè)選自-OH、-NH2、羧酸、羧酸酯、酚酯、聚醚、酰胺、胺、磺酰胺、硫代磷酸酯和磷酸酯官能團(tuán)的烴基,m及n分別為零或正整數(shù)。
5.如權(quán)利要求1或2所述的磁記錄介質(zhì),其中烴基取代的環(huán)戊烷、烴基取代的環(huán)戊烯或烴基取代的環(huán)戊二烯的衍生物包括至少一個(gè)選自羥基、羧酸、胺、羧酸酯、羧酸酰胺、磷酸鹽和含硫基團(tuán)的官能團(tuán)。
6.如權(quán)利要求5所述的磁記錄介質(zhì),其中烴基取代的環(huán)戊烷、烴基取代的環(huán)戊烯或烴基取代的環(huán)戊二烯的衍生物分別以下式表示:
其中a為0,1,2,3,4,5,6,7,8,9或10;m及n為零或正整數(shù);R1,R2,R3及R4各自為烴基。
7.如權(quán)利要求5所述的磁記錄介質(zhì),其中烴基取代的環(huán)戊烷、烴基取代的環(huán)戊烯或烴基取代的環(huán)戊二烯的衍生物分別以下式表示:
其中a為0,1,2,3,4,5,6,7,8,9或10;m及n為零或正整數(shù);R1,R2,R3及R4各自為烴基;X為氧或硫。
8.如權(quán)利要求5所述的磁記錄介質(zhì),其中烴基取代的環(huán)戊烷、烴基取代的環(huán)戊烯或烴基取代的環(huán)戊二烯的衍生物分別以下式表示:其中a為0,1,2,3,4,5,6,7,8,9或10;m及n為零或正整數(shù);R1,R2,R3及R4各自為烴基;Y為-OH;-NH2,;或-(CF2)b-F,此處b為1,2,3,...,或20。
9.如權(quán)利要求5所述的磁記錄介質(zhì),其中烴基取代的環(huán)戊烷、烴基取代的環(huán)戊烯或烴基取代的環(huán)戊二烯的衍生物分別以下式表示:
其中c為0,1,2,3,4,5,6,7,8,9或10;m及n為零或正整數(shù);R1,R2及R3各自為烴基;R4及R5各自為氫或烴基。
10.如權(quán)利要求5所述的磁記錄介質(zhì),其中烴基取代的環(huán)戊烷、烴基取代的環(huán)戊烯或烴基取代的環(huán)戊二烯的衍生物分別以下式表示:
其中c為0,1,2,3,4,5,6,7,8,9或10;m及n為零或正整數(shù);R1,R2及R3各自為烴基;R5為氫或烴基;Z為烴基或-(CF2)b-F,此處b為1,2,3,...,或20。
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