[發明專利]確定最佳擦除和寫入功率的方法、以及帶有使用所述方法的設備的記錄裝置

無效

• 申請號: 00800301.7
• 申請日: 2000-01-06
• 公開（公告）號: CN1296610A
• 公開（公告）日: 2001-05-23
• 發明（設計）人: G·F·周;R·范沃登博格;J·H·M·斯普瑞特
• 申請（專利權）人: 皇家菲利浦電子有限公司
• 主分類號: G11B7/00
• 分類號: G11B7/00;G11B7/125
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 羅朋,葉愷東

本發明涉及一種確定用于擦除在一種光記錄介質中所提供標記的最佳擦除功率的方法，其中，在所述這種光記錄介質中是這樣提供這些標記的：通過用具有足夠高功率的輻射脈沖來局部加熱所述記錄介質從而導致該記錄介質上的光學特性的改變，其中隨著所述輻射脈沖反射的減小，這種光學特性的改變變得顯著。

本發明還涉及一種確定用于在光記錄介質上提供標記的最佳寫入功率的方法，其中通過用具有足夠高功率的輻射脈沖來局部加熱所述記錄介質從而導致該記錄介質上的光學特性的改變，其中隨著所述輻射脈沖反射的減小，這種光學特性的改變變得顯著。

本發明還涉及用于根據本發明的其中一種方法的光記錄介質，該記錄介質是由射線束可刻的，并且包含有其中包括有關所述光記錄介質的特性的信息的區域。

本發明還進一步涉及一種記錄裝置，該裝置包括用于確定用于擦除在一種光記錄介質中所提供標記的最佳擦除功率的校準裝置，其中，在所述這種光記錄介質中是這樣提供這些標記的：通過用具有足夠高功率的輻射脈沖來局部加熱所述記錄介質從而導致該記錄介質上的光學特性的改變，其中隨著所述輻射脈沖反射的減小，這種光學特性的改變變得顯著。

本發明還進一步涉及一種記錄裝置，該裝置包括用于確定用于在一種光記錄介質中所提供標記所需的最佳寫入功率的校準裝置，其中，在所述這種光記錄介質中是這樣提供這些標記的：通過用具有足夠高功率的輻射脈沖來局部加熱所述記錄介質從而導致該記錄介質上的光學特性的改變，其中隨著所述輻射脈沖反射的減小，這種光學特性的改變變得顯著。

本發明還涉及一種在記錄裝置中所使用的校準裝置。

最佳擦除功率和最佳寫入功率是依賴于所使用的記錄介質的特性以及記錄裝置的各種特性。因此，只要在記錄裝置中使用一個給定的記錄介質，就應該可以確定這些功率值。

用于確定這些功率值的方法和裝置是公知的，尤其是可以從EP0737962(Ricoh有限公司)中可以了解到。該申請描述了一種方法，其中可以參考對于每個記錄介質和記錄裝置的組合是固定的調制功率曲線來確定最佳寫入功率。通過在大范圍的寫入功率(PW)中在記錄介質上提供標記并且通過隨后檢測每個寫入功率的相關標記的調制值(m)來確定所述調制功率曲線，該調制值是來自一個標記上的反射功率相對于來自沒有標記區域的反射功率的值。可以在調制功率曲線(m(P_W))上相對于相關的寫入功率來畫出因此而獲得的調制值。隨后，可以確定代表前述調制功率曲線(m(P_W))的歸一化一階導數(γ=(dm/dP_W)·(P_W/m))的曲線(γ曲線)。這條γ曲線具有漸近的變化，在較高的寫入功率處僅產生γ的輕微減少。通過選擇與導數γ的預定值相關的功率來發現最佳的寫入功率。最佳擦除功率隨后線性依賴于所發現的最佳寫入功率。

不可能從諸如γ曲線這樣的漸近變化曲線中確定一個明確的值。輸入值的微小改變、γ的預定值都可能導致輸出信號即最佳寫入功率的較大的變化。另外，當確定調制功率曲線時，使用位于最佳寫入功率之上的寫入功率從而在記錄介質上導致不必要的高溫。

本發明的一個目的是提供一種明確確定最佳擦除功率的方法并提供一種明確確定最佳寫入功率的方法并能避免在記錄介質中產生不必要的高溫。